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Univ. Paris-Saclay

Brevets 2009

10 décembre 2009
M.C. Clochard et T. Wade

Numéro d'identification : WO 2009/147244 (lien WIPO)
Numéro d'identification CEA : BD
Année de dépôt : 06-06-2008
Année de publication : 10-12-2009

Procédé et dispositif utilisant une membrane nanoporeuse pour détecter et quantifier des métaux lourds dans un fluide par voltamétrie par strippage anodique

L'invention concerne un procédé et un dispositif permettant de capturer des métaux lourds présents dans des boues résiduaires. Le procédé consiste à: a) placer dans le fluide une membrane à traces attaquées radiogreffées (FRTEM) contenant des nanopores polymériques, une première électrode étant disposée sur un côté de cette membrane; b) capturer sélectivement les métaux lourds présents à l'intérieur des nanopores polymériques; c) réaliser une analyse voltamétrique par strippage anodique (ASV) sur la membrane afin de différencier et de quantifier les métaux lourds, la première électrode étant utilisée comme électrode de détection par ASV.

 


Method and device using nanoporous membrane for detecting and quantifying heavy metal ions in a fluid by anodic stripping voltammetry (lien WIPO)

 

Method and a device for capturing heavy metal ions included in sewage sludge. The method comprises steps of : a) placing in the fluid a functionalised radiografted track-etched membrane FRTEM which contains polymer nanopores; this membrane comprising a first electrode on one side of the membrane, b) selectively capturing heavy metal ions inside the polymer nanopores, c) applying an anodic stripping voltammetric ASV analysis on the membrane in order to differentiate and quantify captured metal ions, said first electrode being used as an ASV detection electrode.

Contact: M.C. Clochard

01 octobre 2009
J. Charlier, S. Palacin , A. Ghorbal et F Grisotto

Numéro d'identification : WO 2009/118387 (Lien OMPI)
Numéro d'identification CEA BD10546
Année de dépôt : 08-03-2008
Date de publication : 01-10-2009

Procédé d'électrogreffage localisé sur des substrats conducteurs ou semi-conducteurs en présence d'une microélectrode

La présente invention concerne un procédé de greffage localisé d'un film organique sur une zone sélectionnée d'un substrat conducteur ou semi- conducteur de l'électricité, en présence d'une solution liquide contenant au moins un primaire d'adhésion organique et au moins un monomère polymérisable par voie radicalaire, différent du primaire d'adhésion organique, par application d'un potentiel électrique au substrat en présence d'une microélectrode polarisée. La présente invention concerne également un film organique isolant greffé sur un substrat conducteur ou semi- conducteur, susceptible d'être préparé par ledit procédé


 

Method for localised electro-grafting on conducting or semiconducting substrates in the presence of a microelectrode (WIPO link)

The invention relates to a method for the localised grafting of an organic film in a selected area of an electrically conducting or semiconducting substrate, in the presence of a liquid solution containing at least one organic adhesion primer and at least one radically polymerisable monomer and different from the organic adhesion primer, wherein said method comprises the application of an electric potential to the substrate in the presence of a polarised microelectrode. The invention also relates to an organic insulating film grafted on a conducting or semiconducting substrate that can be produced by said method.adhesion primary, and to the various uses thereof.

Contact: S. Palacin

26 mars 2009
J. Charlier et S. Palacin

Numéro d'identification : WO/2009/037311 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1759
Année de dépôt : 20-09-2007
Date de publication : 26-03-2009

Procédé d'électrogreffage localisé sur des substrats semi-conducteurs photosensibles

La présente invention concerne un procédé de préparation d'un film organique sur une zone sélectionnée à la surface d'un substrat semi-conducteur photosensible, comprenant les étapes suivantes : (i) mise en contact d'une solution liquide comprenant un primaire d'adhésion organique avec une zone sélectionnée; (ii) polarisation de la surface du substrat à un potentiel électrique plus cathodique que le potentiel de réduction du primaire d'adhésion mis en œuvre à l'étape (i); (iii) exposition de la zone sélectionnée à un rayonnement lumineux dont l'énergie est supérieure égale à celle du gap du semi-conducteur.


Method of localized electrografting onto photosensitive semiconductor substrates
(Lien OMPI)

The present invention relates to a method of preparing an organic film on a selected area of the surface of a photosensitive semiconductor substrate, characterized by the following steps: (i) a liquid solution comprising one organic adhesion primer is brought into contact with one selected area; (ii) the surface of the substrate is biased with an electrical potential more cathodic than the reduction potential of the adhesion primer used in step (i); and (iii) the selected area is exposed to light radiation of energy at least equal to that of the bandgap of the semiconductor.

 Contact: S. Palacin

04 juin 2009
D. Marion et H. Desvaux

Numéro d'identification : EP 2 068 164 (pdf)
Numéro d'identification CEA BD 10124                  
Année de dépôt : 04-12-2007
Date de publication : 04-06-2009 

Procédé de réglage d'un circuit d'excitation et détection pour résonance magnétique nucleaire et circuit d'excitation et détection adapte a la mise en œuvre d'un tel procédé
L'invention rapporte le procédé de réglage d'un circuit d'excitation  et détection pour résonnance magnétique nucléaire, comprenant une sonde, du type comportant une seule bobine pour émettre des impulsions d'excitation des spins nucléaires d'un échantillon immergé dans un champ magnétique et pour détecter un signal de résonnancedes spins nucléaires. Le procédé est caractérisé par une étape d'accord de la fréquence de résonnance en réception du  circuit à la fréquence de Larmor (fo) des spins nucléaires des atomes à détecter.


Method for adjusting an excitation and detection circuit for nuclear magnetic resonance, and circuit adapted for carrying out said method

The method involves generating radio frequency pulses by a radio frequency (RF) pulses generator (G), and transmitting the pulses by a single coil i.e. inductor (L), in a probe (S) to excite nuclear spins of a sample immersed in a magnetic field. A resonance signal is detected from the nuclear spins. A resonant frequency is tuned to a Larmor frequency of the nuclear spins of atoms that are to be detected. An independent claim is also included for a nuclear magnetic resonance excitation and detection circuit comprising an adjustable electrical element for enabling resonant frequency in reception of the probe to be tuned to the Larmor frequency of the nuclear spins.

Contact: H. Desvaux

 

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