L'Atelier de Nanofabrication du SPEC (AdN)
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L'Atelier de Nanofabrication du SPEC (AdN)

Dispositifs réalisés au sein de l'AdN (Atelier de Nanofabrication du SPEC) dans le cadre de différents projets (Nano-électronique, Quantronique, Senseurs magnétiques)

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Le SPEC s'est progressivement équipé d'un atelier de nanofabrication qui permet aux groupes de recherche d'y réaliser leurs échantillons. Cette installation du CEA, labellisée "centrale de proximité" en 2004 par le Ministère de l'Enseignement Supérieur et de la Recherche bénéficie également du soutien du CNRS, de la région Ile de France et de l'ANR (Agence nationale de la Recherche).

Renatech

L'Atelier de Nanofabrication du SPEC est labellisée « Centrale de Proximité » du réseau Renatech.

L'accès est en libre service pour les personnes ayant reçu les formations nécessaires. Des utilisateurs extérieurs  peuvent y avoir accès dans le cadre d'une collaboration active avec au moins une équipe du SPEC. Lorsqu'un projet extérieur est soumis, il est présenté au comité de pilotage qui en évalue la faisabilité avec les moyens existants. Pour qu'un tel projet puisse être accepté, il est indispensable qu'un groupe du SPEC prenne en charge l'encadrement et l'assistance aux utilisateurs qui conduisent ce projet.

L'atelier est constitué d'une salle blanche de classe 10000 réalisée en 2006 (115 m²) et d'une salle "grise"  de classe 100000  (50 m²). La première est équipée pour la lithographie optique, la préparation d'échantillons (gravures chimiques humides et sèches) et la caractérisation. La seconde accueille des équipements de dépôt de couches minces (2 évaporateurs, 2 pulvérisations) et un masqueur électronique de recherche.

D'autres équipements sont répartis dans des locaux conventionnels (120 m²) dont l'empoussièrement n'est pas contrôlé : lithographie électronique par MEB, équipements de dépôt de couches minces, appareils de caractérisation.

Un effectif de deux ingénieurs permanents est en charge du fonctionnement et de la maintenance de l'atelier.

Environ 80 utilisateurs sont enregistrés pour y avoir accès, une quarantaine y travaille régulièrement.

Contact :

 

 
#1635 - Màj : 28/05/2020
 
Lithographie optique Système de lithographie par écriture directe UV Heidelberg µMLA (2019)   Système de lithographie laser KLOE Dilase 650 (2011)   Aligneur de masques Suss Microtec MJB4 (2007)   Aligneur de masques Karl Suss MJB3 (1988)   Tournettes Suss Microtec LabSpin6 sous flux laminaire (x 2)  
  Pief Orfila Mail to : pief.orfila@cea.fr       Sébastien Delprat Mail to : sebastien.luc.delprat@cea.
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