Croissance par PECVD de nanotubes de carbone orientés

Le 15 juin 2007
Types d’événements
Séminaire SPCSI
Aurelien Gohier
SPEC Bât 466 p.111 (1er ét.)
Configuration de la salle en séminaire ou réunion
30 places
Vidéo Projecteur
Le 15/06/2007
à 11h00

Les nanotubes de carbone (NTC) intéressent vivement la communauté scientifique au vu de leurs propriétés chimiques, mécaniques et électriques remarquables. Les progrès accomplis ces derniers quinze ans sont considérables et reflètent bien l’importance attribuée au NTC dans l’essor des nanosciences et nanotechnologies. Ils sont déjà sur le point d’être exploités dans de nombreuses applications telles l’émission de champ, les transistors à effet de champ, les interconnexions entre niveaux dans les circuits intégrés etc. La diversification de ces applications requière le contrôle des procédés et la compréhension des paramètres clés gouvernant leur croissance, focalisant ainsi une partie importante des recherches actuelles. Généralement, on distingue deux catégories de nanotubes : les nanotubes mono-feuillet (SWNT) constitués d’un seul cylindre et les multi-feuillets (MWNT). Récemment, une attention toute particulière s’est portée sur les nanotubes double-feuillets (DWNT) ou possédant peu de parois (Few Walled Nanotube –FWNT). Ces derniers semblent bénéficier des avantages des deux familles de NTC et ont par conséquent un très fort potentiel applicatif. Les procédés de synthèse à température modérée apparaissent très attrayants pour les applications des NTC. Ils se regroupent en deux grandes familles : (i) le dépôt chimique en phase vapeur en présence d’un plasma (PECVD -Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) et (ii) le dépôt chimique assisté par la température uniquement (CVD). Les deux techniques permettent d’abaisser la température de synthèse (

Institut des Matériaux Jean Rouxel de Nantes (IMN), et Couches Minces, UMR 6502 CNRS – Université de Nantes