Résumé :
Le CIMAP, Centre de Recherche sur les Ions, les Matériaux et la Photonique (UMR 6252 CNRS, CEA, Ensicaen, Université de Caen) a acquis un équipement couplant l’imagerie de microscopie électronique à balayage (MEB) avec une colonne ionique focalisée plasma (FIB) pour la gravure et un spectromètre de masse des ions secondaires par temps de vol (TOF-SIMS). Cet appareil, la NanoSpace, a été développé par la société Orsay Physics basée à Fuveau sur une plateforme UHV FIB/SEM de la société TESCAN. Cet appareil permet dans un environnement UHV d’obtenir une résolution inférieure à 4 nm en MEB et une résolution de 12 nm en FIB Xénon avec une vitesse d’abrasion 50 fois plus rapide qu’une source Gallium. En ce qui concerne le TOFSIMS, la résolution en masse est de 4500 sur le 28Si, une résolution en imagerie inférieure à 60 nm sur un domaine en masse de 0 à 500u. Au cours de cet exposé, je vous présenterai cet équipement ainsi que les tests réalisés et les résultats obtenus dans divers domaines allant des matériaux inorganiques jusqu’aux échantillons biologiques. La NanoSpace offre la possibilité de réaliser des images corrélatives SEM/SIMS voire SEM/EDX/SIMS puisqu’elle peut aussi accueillir un spectromètre EDX-UHV. Elle possède des avantages mais aussi, comme tout équipement, des inconvénients que j’aborderai via des approches expérimentales.