Les méthodes d’activation sont très utiles pour étudier les mécanismes atomiques de diffusion et de relaxation dans des matériaux dont la dynamique est dominée par des barrières d’activation haute par rapport à la température. C’est le cas des défauts dans les cristaux, des protéines, des verres et des matériaux amorphes, par exemple. Dans ce séminaire, je vais discuter de méthodes activées que nous avons développées depuis une dizaine d’années: ART, ART nouveau, POP-ART et ART DECO et présenter certaines applications à l’étude des propriétés structurales et dynamique des défauts dans le silicium et le GaAs. En particulier, je présenterai des résultats de calculs ab-initio sur les lacunes dans le Si et le GaAs.
Récents développements et applications de la technique d’activation et de relaxation (ART)
Le 24 janvier 2006
Types d’événements
Séminaire SRMP
Normand MOUSSEAU
SRMP Bât 520 p.109
Le 24/01/2006
à 10h30