Dispositif (1) de revêtement de particules de taille nanométrique sur un substrat (4) dans lequel le dispositif (1) comprend: une pluralité de moyens (2a, 2b, 2c, 2d) dits de production aptes à produire chacun un jet (3) de particules de taille nanométrique, chacun desdits moyens de production présentant un axe longitudinal, les moyens de production étant agencés de sorte que les différents axes longitudinaux sont parallèles et orientés dans une première direction (X) définissant la direction de propagation du jet et sous la forme d'au moins deux colonnes (9, 10) décalées l'une par rapport à l'autre selon une deuxième direction (Y) orthogonale à la première direction (X) où la première colonne (9) et la deuxième colonne (10) comportent chacune au moins un moyen de production, ledit au moins un moyen (2a, 2b, 2c, 2d) de production de la première colonne (9) étant par ailleurs décalé par rapport audit au moins un moyen (2a, 2b, 2c, 2d) de production de la deuxième colonne (10) selon une troisième direction (Z) à la fois orthogonale à la première direction (X) et à la deuxième direction (Y).
Device for depositing nanometric sized particles onto a substrate (WIPO link)
A device (1) for coating a substrate (4) with nanometric sized particles, wherein the device (1) comprises: a plurality of means (2a, 2b, 2c, 2d), called production means, each able to produce a jet (3) of nanometric sized particles, each of said production means having a longitudinal axis, the production means being arranged so that the various longitudinal axes are parallel and oriented in a first direction (X) defining the direction of propagation of the jet and in the form of at least two columns (9, 10) offset from each other in a second direction (Y) orthogonal to the first direction (X), where the first column (9) and the second column (10) each comprise at least one production means, said at least one production means (2a, 2b, 2c, 2d) of the first column (9) also being offset relative to said at least one production means (2a, 2b, 2c, 2d) of the second column (10) in a third direction (Z) that is both orthogonal to the first direction (X) and to the second direction (Y).
Auteurs : O. Sublementier (NIMBE/LEDNA), Y. Rousseau, C. Petit, C. Muller, A. Billard, P. Briois, F. Perry, et J-P. Gaston.