Un nouveau laboratoire à Saclay : EXULITE

Graver des motifs toujours plus fins pour stocker toujours plus d’informations, voilà le défi permanent pour l’industrie de la microélectronique. L’objectif est de disposer, vers 2010, de techniques de lithographie pour graver des motifs inférieurs à 32 nm. Le consortium français EXULITE, inauguré au CEA Saclay le 27 janvier dernier, s’est lancé sur un axe de recherche très prometteur qui utilise de la lumière dans l’extrême ultraviolet (EUV) à la longueur d’onde de 13,5 nm, grâce à des plasmas créés par laser. EXULITE regroupe les efforts du CEA, d’Alcatel Vacuum Technology et de Thalès Laser, pour réaliser mi-2005 un prototype (ELSAC) délivrant une puissance EUV de plusieurs watts à une cadence de 10kHz. Le CEA/DEN/DPC a en charge la partie optique, le DSM/DRECAM/SPAM l’intégration de l’enceinte source.