L'invention concerne un procédé de préparation de matériau sol-gel silicaté nanoporeux monolithique, permettant de moduler la distribution de tailles de pores pour une même composition de départ et ceci sans ajout d'agent structurant, ledit procédé comprenant les étapes suivantes :
- Synthèse d'un gel à partir d'au moins un précurseur organosilylé la synthèse étant effectuée en milieu aqueux comprenant éventuellement un solvant organique et sans agent structurant,
- Séchage du gel obtenu à l'étape a) à une température comprise entre 10°C et 70°C, préférentiellement entre 15°C et 55°C et plus préférentiellement entre 20°C et 40°C, en flux de gaz dans une enceinte de séchage jusqu'à obtention d'un matériau monolithique sol-gel silicaté nanoporeux et une humidité relative résiduelle dans l'enceinte de séchage comprise entre 0,1 et 20%, préférentiellement entre 0,5 et 10% et plus préférentiellement à environ 5%.
Method for preparing a monolithic nanoporous silicate sol-gel material (WIPO link)
The invention relates to a method for preparing a monolithic nanoporous silicate sol-gel material for modulating the pore size distribution for one single starting composition without the addition of a structuring agent, said method comprising the following steps:
- Synthesising a gel from at least one organosilylated precursor, the synthesis being carried out in an aqueous medium, optionally comprising an organic solvent and without a structuring agent, and
- Drying the gel obtained in step a) at a temperature between 10°C and 70°C, preferably between 15°C and 55°C and more preferably between 20°C and 40°C, in a gas flow in a drying chamber to obtain a monolithic nanoporous silicate sol-gel material and a residual relative humidity in the drying chamber of between 0.1 and 20%, preferably between 0.5 and 10% and more preferably about 5%.
Auteurs : Clarisse Tran, Thu-Hoa Tran-Thi, Sabine Crunaire, Jean-Luc WojkiewiczMarie-Pierre Som, (NIMBE/LEDNA).