Procédé pour graver une couche d’oxyde métallique conducteur utilisant une microélectrode
L’invention concerne un procédé pour graver une zone sélectionnée d’une couche d’oxyde métallique conducteur déposée sur un support, consistant à éliminer ladite zone par voie électrochimique en présence d’une microélectrode polarisée et d’une solution électrochimique. La présente invention concerne également la couche gravée obtenue par un tel procédé.
Method for etching conductive metal oxide layer using microelectrode
(WIPO link)
The invention relates to a method for etching a selected area of a conductive metal oxide layer deposited onto a substrate, said method involving the electrochemical removal of said area in the presence of a polarized microelectrode and an electrochemical solution. The present invention also relates to the etched layer that is achieved by such a method.
