Procédé et dispositif de génération de lumière dans l’extrême ultraviolet notamment pour la lithographie
Selon l’invention, on fait interagir un faisceau laser (24) et un brouillard dense (20) de micro-gouttelettes d’un gaz rare liquéfié. On utilise en particulier le xénon liquide (6), produit par liquéfaction de xénon gazeux (10) avec lequel on pressurise le xénon liquide à une pression de 5×105 Pa à 50×105 Pa, et l’on maintient ce xénon liquide à une température de -70°C à -20°C, on injecte le xénon liquide pressurisé dans une buse (4) dont le diamètre intérieur minimal va de 60 μm à 600 μm, cette buse débouchant dans une zone où la pression est égale ou inférieure à 10-1 Pa.
Method and device for generating extreme ultraviolet radiation in particular for lithography
(WIPO link)
The invention concerns a method which consists in causing a laser beam (24) to interact with a dense mist (20) of micro-droplets of a liquefied rare gas. In particular liquid xenon (6) is used, the latter being produced by liquefying a gaseous xenon (10) whereby the liquid xenon is pressurised to a pressure of 5×105 Pa to 50×105 Pa, and said liquid xenon is maintained at a temperature between -70 °C and -20 °C, said pressurised liquid xenon is injected into a nozzle (4) whereof the minimum internal diameter ranges between 60 μm and 600 μm, said nozzle emerging into a zone where the pressure is not less than 10-1 Pa.
Contact: M. Schmidt
