Procédé de fabrication d'un capteur piézorésistif.
L'invention concerne un procédé de fabrication d'un capteur piézorésistif comprenant au moins un levier en polyimide muni d'au moins une électrode, caractérisé en ce qu'il comprend, à partir d'une feuille en polyimide recouverte d'une couche métallique, les étapes suivantes : (a) déposer une couche faite d'un matériau photosensible positif sur la couche métallique ; (b) déposer un masque sur la couche en matériau photosensible, ledit masque étant un masque positif dont le motif définit au moins la forme de ou de chaque électrode métallique, à réaliser, du capteur ; (c) insoler l'ensemble formé à l'issue de l'étape (b) du côté de la couche en matériau photosensible pour activer la partie de cette couche qui n'est pas protégée par le masque ; (d) retirer le masque ; (e) révéler par voie chimique le motif de la couche en matériau photosensible défini par le masque, cette étape permettant de supprimer la partie de la couche photosensible insolée lors de l'étape (c) et ainsi de mettre à nue une partie de la couche métallique ; (f) effectuer un recuit pour durcir la partie de la couche en matériau photosensible restante ; (g) supprimer par voie chimique la partie de la couche métallique qui a été mise à nue lors de l'étape (e), par exemple dans une solution aqueuse basique ou acide ; (h) supprimer la partie de la couche en matériau photosensible restante, de sorte à former une feuille en polyimide sur laquelle est déposé le motif métallique correspondant à celui du masque ; (i) former le ou chaque levier dans la feuille en polyimide.
Method for manufacturing a piezoresistive sensor (WIPO link)
(Automatic translation….)
A method of manufacturing a piezoresistive sensor comprising at least one polyimide lever provided with at least one electrode, characterized in that it comprises, from a polyimide sheet covered with a metal layer, the following steps: (A) depositing a layer made of a positive photosensitive material on the metal layer; (B) depositing a mask on the photosensitive material layer, said mask being a positive mask whose pattern defines at least the or form of each metal electrode, performing, the sensor; (C) irradiating the assembly formed in step (B) on the side of the layer of photosensitive material to activate the portion this layer that is not protected by the mask; (d) removing the mask; (E) reveal chemically the pattern of the layer of photosensitive material defined by the mask, this step for removing the portion of the photosensitive layer exposed in step (C) and thereby get exposed a portion of the metal layer; (F) annealing to cure the portion of the remaining photosensitive material layer; (G) removing chemically the portion of the metal layer which has been exposed in step (E), for example in a basic or acid aqueous solution; (H) removing the portion of the remaining photosensitive material layer, so as to form a polyimide sheet on which is deposited the metal pattern corresponding to that of the mask; (I) forming the or each lever in the polyimide sheet.
Contact : J. Polesel.
