Procédé de fabrication au défilé et en continu de nanostructures alignées sur un support et dispositif associé
L'invention concerne un procédé de fabrication en continu de nanostructures alignées sur un support défilant, qui comprend le convoyage du support à travers un espace chauffé et la synthèse, dans cet espace, des nanostructures alignées sur le support par dépôt chimique catalytique en phase vapeur. L'espace chauffé est divisé en n zones consécutives dans le sens de convoyage du support (n étant un nombre entier > 2) et la synthèse des nanostructures résulte d'opérations de chauffage et d'injection, dans chacune de ces n zones, d'un flux d'un aérosol contenant un précurseur catalytique et un précurseur source du matériau des nanostructures à former, véhiculé par un gaz porteur. Les opérations d'injection sont réalisées en modifiant, dans au moins deux des n zones, au moins un paramètre choisi parmi le débit du flux du gaz porteur, la composition chimique du gaz porteur, la concentration massique du précurseur catalytique dans le mélange du précurseur catalytique et du précurseur source. L'invention concerne également un dispositif de mise en œuvre de ce procédé…
Method for continuous travelling production of nanostructures aligned on a substrate and related device (WIPO link)
The invention relates to a method for continuous production of nanostructures aligned on a travelling substrate, which comprises conveying the substrate through a heated space and synthesising, in said space, nanostructures aligned on the substrate by catalytic chemical vapour deposition. The heated space is divided into n consecutive areas in the direction in which the substrate is conveyed (n being an integer > 2) and the synthesis of the nanostructures is the result of heating and injection operations, in each of said n zones, of a stream of an aerosol containing a catalytic precursor and a source precursor of the material of the nanostructures to be formed, carried by a carrier gas. The injection operations are carried out by modifying, in at least two of the n zones, at least one parameter chosen from the flow rate of the stream of carrier gas, the chemical composition of the carrier gas, and the mass concentration of the catalytic precursor in the mixture of the catalytic precursor and the source precursor. The invention also relates to a device for implementing said method..
Contact : M. Mayne-L'Hermite