Procédé de dépôt d’un film mince nanométrique sur un substrat
L’invention correspond à un procédé de dépôt de film mince nanométrique multicouche sur un substrat à partir d’une soltution liquide contenant au moins un tensio-actif caractérisé an ce qu’il comporte les étapes suivantes: formation d’un film à partir de la solution, mise en contact avec le substrat, dépôt du film sur le substrat. L’invention est particulièrement adaptée pour déposer les films noirss sur différents types de surface. Elle permet notamment d’obtenir des films possédant une grande organisation. Les films obtenus selon ce procédé sont utilisables dans les domaines de l’électronique et de l’optique.
Method for depositing a nanometric thin film on a substrate (Lien WIPO)
The invention concerns in particular a method for depositing a nanometric multilayer thin film on a substrate from a liquid solution containing at least one surfactant, characterized in that it includes the following steps: forming a film from the solution; contacting the substrate; depositing the film on the substrate. The invention is particularly designed to depositing black films on different types of surfaces, in particular for obtaining highly organized films. The films obtained by said method are particularly useful in electronics and optics.
Contact : Jean Jacques Benattar
