Membranes nanostructurées et leurs utilisations
La présente invention concerne un procédé de préparation d'une membrane nanostructurée, ledit procédé comprenant les étapes de : i) Irradiation aux ions lourds d'un substrat polymère, ce par quoi des traces latentes du passage d'ions à travers toute l'épaisseur (e) du substrat polymère sont formées; et ii) Révélation chimique partielle desdites traces latentes, ce par quoi on obtient une membrane nanostructurée comprenant : – des nanopores dont la profondeur (p) est inférieure à l'épaisseur du substrat polymère (e); – des traces latentes résiduelles non révélées.
Nanostructured membranes and uses thereof (WIPO link)
The invention relates to a method for producing a nanostructured membrane, comprising the steps of: i) irradiating a polymer substrate with heavy ions such that latent ion tracks are formed through the entire thickness (e) of the polymer substrate; and ii) partially etching said latent tracks so as to obtain a nanostructured membrane comprising nanopores that are less deep (p) than the thickness (e) of the polymer substrate as well as unetched residual latent tracks
Contact: M.C. Clochard.
