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Patents 2021

Apr 08, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/063554 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD21355
Année de dépôt : 30-06-2020
Date de publication : 08-04-2021

La présente invention concerne un procédé de réalisation d'un support de taille au moins micrométrique et actif en photocatalyse au moins dans le domaine du visible, contenant des nanocristaux composés chacun de 80% à 100 % en moles de TiO2 et de 0% à 20% en moles d'au moins un autre oxyde métallique ou semi-métallique, comprenant les étapes suivantes, à partir d'un milieu réactionnel aqueux acide, à une température de chauffage comprise entre 20 et 60°C: une étape d'ajout du précurseur d'oxyde de titane, ou d'un mélange du précurseur d'oxyde de titane et du précurseur de l'autre oxyde, dans le milieu réactionnel aqueux acide, et une étape de condensation sur ou à l'intérieur du support, par pulvérisation sur le support ou immersion du support dans le milieu réactionnel aqueux, pendant une durée déterminée de condensation, une étape de chauffage, le support permettant de faire cristalliser les nanocristaux, sans utilisation de tensioactif, dans le milieu réactionnel aqueux, une étape de rinçage à l'eau et une étape de récupération d'une part du support sur lequel la cristallisation a eu lieu, ces nanocristaux étant accrochés par liaisons covalentes au support, et d'autre part d'une solution résiduelle.

Mar 25, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/053033 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD19517
Année de dépôt : 12-09-2019
Date de publication : 25-03-2021

Un aspect de l'invention concerne un empilement magnétorésistif (1) comprenant : - Une couche de référence (2) comprenant : • Une couche magnétique (21), • Une couche antiferromagnétique (24) en couplage d'échange avec la couche magnétique (21), • Une couche magnétique (22) sensiblement de même aimantation que la couche magnétique (21), • Une couche espaceur (23) entre les couches magnétiques (21, 22) d'épaisseur permettant un couplage antiferromagnétique entre les couches magnétiques (21, 22) d'une première intensité de couplage, - Une couche libre (3) de coercivité inférieure à 10 microTesla, la couche libre (3) comprenant : • Une couche magnétique (32), • Une couche antiferromagnétique (34) en couplage d'échange avec la couche magnétique (32), • Une couche magnétique (31) sensiblement de même aimantation que la couche magnétique (32), • Une couche espaceur (33) entre les couches magnétiques (31, 32) d'épaisseur permettant un couplage antiferromagnétique entre les couches magnétiques d'une deuxième intensité de couplage inférieure à la première intensité de couplage, - Une troisième couche espaceur (4) séparant la couche de référence (2) et la couche libre (3).

Mar 04, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/041093 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD19991
Année de dépôt : 28-08-2019
Date de publication : 04-03-2021

Selon un aspect de l'invention, un capteur d'angle de champ magnétique comprenant une structure de pont qui comporte un pont de sinus configuré pour générer un signal sinusoïdal indicatif d'un champ magnétique le long d'un premier axe et un pont de cosinus configuré pour générer un signal cosinusoïdal indicatif du champ magnétique le long d'un second axe qui est orthogonal par rapport au premier axe. L'un du pont de sinus ou du pont de cosinus comprend un premier ensemble d'au moins deux éléments de magnétorésistance, un deuxième ensemble d'au moins un élément de magnétorésistance, un troisième ensemble d'au moins un élément de magnétorésistance et un quatrième ensemble d'au moins un élément de magnétorésistance. Une direction de référence moyenne du premier ensemble d'au moins deux éléments de magnétorésistance est égale à une direction de référence moyenne du troisième ensemble d'au moins un élément de magnétorésistance.

May 14, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/089957 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD18963
Année de dépôt : 08-11-2019
Date de publication : 14-05-021

La présente invention porte sur un procédé de dépôt de film sur un substrat à partir d'une composition liquide comprenant un tensioactif neutre et un composé lamellaire chargé.

Mar 18, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/048507 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD19641
Année de dépôt : 13-09-2019
Date de publication : 18-03-2021

L'invention concerne un procédé de traitement d'un film mince en un matériau conducteur ou semi-conducteur pour en améliorer la qualité cristalline. Il comprend : - la fourniture d'un substrat comportant, sur l'une de ses faces, un film mince dudit matériau; et - le traitement sous plasma polarisé de l'ensemble formé par le substrat et le film mince à une température et pendant une durée déterminées, de manière à obtenir une réorganisation cristalline sur une profondeur du film mince, le traitement sous plasma polarisé comprenant une polarisation électrique du film mince et une exposition du film ainsi polarisé à un plasma d'hydrogène, le traitement sous plasma polarisé étant réalisé à une température qui est inférieure aux températures de fusion du film mince et du substrat.

Jan 14, 2021

Numéro d’identification: WO2021/004953 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD19339
Année de dépôt : 05-07-2019
Date de publication : 14-01-2021

L'invention concerne un dispositif microfluidique (1) comportant : au moins un piège capillaire (12), et au moins une microgoutte (15) comportant une matrice sol-gel, la microgoutte (15) étant piégée dans le piège capillaire (12).

Jan 07, 2021

Numéro d’identification: WO/2021/001383 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA : BD19055
Année de dépôt : 02-07-2019
Date de publication : 07-01-2021

L'invention a pour objet un générateur pulsé de particules chargées électriquement comprenant : une enceinte à vide (V); ledit générateur étant caractérisé en ce que : l'enceinte à vide (V) est configurée pour maintenir une pression interne de fonctionnement comprise entre 10-6 mbar et la pression atmosphérique; l'enceinte à vide (V) est configurée pour accueillir une photocathode (PH) et une anode (AN), la photocathode (PH) et l'anode (AN) étant séparées par une distance (L) ajustable inférieure ou égale à 30 mm; l'enceinte à vide (V) comporte une fenêtre (F) permettant à une lumière impulsionnelle d'atteindre en premier une face arrière de la photocathode; l'anode est disposée en aval de la photocathode et présente un orifice adapté pour le passage des particules chargées électriquement; le générateur de particules chargées électriquement comprend des moyens pour appliquer une différence de potentiel entre la photocathode et l'anode, ladite tension électrique étant configurée pour accélérer les particules chargées.

 

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