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Domaines Techniques
L'Atelier de Nanofabrication du SPEC (AdN)
Équipements de l'AdN
Équipe de l'AdN
Images
Équipements de l'AdN
Lithographie optique
Système de lithographie par écriture directe UV Heidelberg µMLA (2019)
Système de lithographie laser KLOE Dilase 650 (2011)
Aligneur de masques Suss Microtec MJB4 (2007)
Aligneur de masques Karl Suss MJB3 (1988)
Tournettes Suss Microtec LabSpin6 sous flux laminaire (x 2)
Lithographie électronique
Système de lithographie Raith E-Line (2008)
Microscope électronique FEI XL30 SFEG (1998)
+ système de lithographie Raith Elphy
Dépôt de couches minces
Évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 450 (1990) [Al, Au, Ti, Pt, Pd, Ag, Cu]
Évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 550S (2007) [Al, Au, Ti, Pt, Cu, V]
Évaporateur joule Zivy (1987 reconditionné en 2000) [Au, Ti, Ge, Ni]
Pulvérisation DC Alcatel SCM400 (1987) [Al, Nb, Ti, Ta]
Pulverisation RF Plassys MP300 monocible pour isolants [SiO
2
, SiN, Al
2
O
3
, NbTiN, TiN]
Bâti UHV Méca 2000, évaporation canon à électrons, pulvérisation RF multicibles, usinage ionique.
Gravure humide
Sorbonnes de chimie avec extraction (x 5)
Gravure sèche
Bâti de gravure RIE Plassys MG200 (1989)
[SF6, CHF3, CF4, O2, Ar]
Délaqueuse (downstream stripper) [O2]
Canon à ion couplé à un SIMS [Ar]
Caractérisation
Profilomètre KLA tencor
AFM 5500LS Stage -Keysight
Mesureur d'épaisseur par éllipsométrie Filmetrics
Testeuse sous pointes Karl Suss
Microscopes optiques avec enregistrement numérique (x 5)
Divers
Scie diamantée Disco DAD3350
Scriber Karl Suss
Machine de soudure par ultra sons TpT (wegde bond)
Machine de soudure par ultra sons K&S (ball bond)
Machine de soudure par ultra sons K&S (wegde bond
Machine de séchage supercritique Euris
#3228 - Màj : 22/05/2020
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