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Patents 2001

31-05-2001
F. Amy, C. Brylinski, G. Dujardin, H. Enriquez, A. Mayne et P. Soukiassian

Numéro d'identification : WO/2001/039257 (lien OMPI et lFichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1285
Année de dépôt : 25-11-1999
Date de publication : 31-05-2001

Couche de silicium très sensible à l'oxygène et procédé d'obtention de cette couche

La présente invention concerne une couche de silicium qui est très sensible à l'oxygène ainsi qu'un procédé d'obtention de cette couche. La couche est formée sur un substrat, par exemple en SiC, et a une sur-structure de surface 4x3. Pour l'obtenir, on dépose de façon sensiblement uniforme du silicium sur une surface du substrat. L'invention s'applique par exemple en microélectronique.


Couche de silicium tres sensible a l'oxygene et procede d'obtention de cette couche
(Lien WIPO)

The present patent concerns a silicon layer that is hioghly sensitive to oxygen and the process to elaborate this layer. The invention concerns a layer formed on a substrate, for example a SiC layer, having a 4x3 surface structure. The process for obtaining such a layer consists in depositing silicon substantially evenly on a surface of the substrate. The invention is useful in particular in microelectronics.

Contact : P. Soukiassian

26-04-2001
M. Schmidt et O. Sublemontier

Numéro d'identification : WO 2001/030122 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1274
Année de dépôt : 18-10-1999
Date de publication : 26-04-2001

Génération d'un brouillard dense de gouttelettes micrométriques pour la lithographie dans l'UV extrême

Procédé et dispositif de génération d'un brouillard dense de gouttelettes micrométriques et sub-micrométriques. Application à la génération de lumière dans l'extrême ultraviolet notamment pour la lithographie. Selon l'invention, on injecte un liquide pressurisé (4) dans une buse (10) de très faible diamètre débouchant dans le vide. La lumière (42) est engendrée par focalisation d'un rayonnement laser (36) sur le brouillard dense (23).

 


Production of a dense mist of micrometric droplets in particular for extreme UV lithography
(WIPO link)

 

The invention concerns a method and a device for producing a dense mist of micrometric and sub-micrometric droplets, used for light generation in the extreme ultraviolet in particular for lithography. The invention is characterized in that it consists in injecting pressurized liquid (4) into a nozzle (10) with a small diameter emerging into vacuum. Light (42) is generated by focusing a laser radiation (36) onto the dense mist (23).

Contact: M. Schmidt

31-05-2001
F. Amy, C. Brylinski, G. Dujardin, H. Enriquez, A. Mayne et P. Soukiassian

Numéro d'identification : WO/2001/039257 (lien OMPI et lFichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1285
Année de dépôt : 25-11-1999
Date de publication : 31-05-2001

Couche de silicium très sensible à l'oxygène et procédé d'obtention de cette couche

La présente invention concerne une couche de silicium qui est très sensible à l'oxygène ainsi qu'un procédé d'obtention de cette couche. La couche est formée sur un substrat, par exemple en SiC, et a une sur-structure de surface 4x3. Pour l'obtenir, on dépose de façon sensiblement uniforme du silicium sur une surface du substrat. L'invention s'applique par exemple en microélectronique.


Couche de silicium tres sensible a l'oxygene et procede d'obtention de cette couche
(Lien WIPO)

The present patent concerns a silicon layer that is hioghly sensitive to oxygen and the process to elaborate this layer. The invention concerns a layer formed on a substrate, for example a SiC layer, having a 4x3 surface structure. The process for obtaining such a layer consists in depositing silicon substantially evenly on a surface of the substrate. The invention is useful in particular in microelectronics.

Contact : P. Soukiassian

26-04-2001
M. Schmidt et O. Sublemontier

Numéro d'identification : WO 2001/030122 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1274
Année de dépôt : 18-10-1999
Date de publication : 26-04-2001

Génération d'un brouillard dense de gouttelettes micrométriques pour la lithographie dans l'UV extrême

Procédé et dispositif de génération d'un brouillard dense de gouttelettes micrométriques et sub-micrométriques. Application à la génération de lumière dans l'extrême ultraviolet notamment pour la lithographie. Selon l'invention, on injecte un liquide pressurisé (4) dans une buse (10) de très faible diamètre débouchant dans le vide. La lumière (42) est engendrée par focalisation d'un rayonnement laser (36) sur le brouillard dense (23).

 


Production of a dense mist of micrometric droplets in particular for extreme UV lithography
(WIPO link)

 

The invention concerns a method and a device for producing a dense mist of micrometric and sub-micrometric droplets, used for light generation in the extreme ultraviolet in particular for lithography. The invention is characterized in that it consists in injecting pressurized liquid (4) into a nozzle (10) with a small diameter emerging into vacuum. Light (42) is generated by focusing a laser radiation (36) onto the dense mist (23).

Contact: M. Schmidt

 

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