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Patents 2006

15-01-2006
G. Cheymol, P. Cormont, P.Y. Thro, O. Sublemontier, M. Schmidt et B. Barthod

Numéro d'identification : WO/2006/000718 (lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD
Année de dépôt : 14-06-2004
Date de publication : 05-01-2006  

Dispositif de génération de lumière dans l'extrême ultraviolet (EUV) et application à une source de lithographie par rayonnement dans l'extrême ultraviolet

Le dispositif comprend un dispositif (2) pour créer, dans un espace sous vide où sont focalisés des faisceaux laser (1), une cible (4) linéaire, apte à produire par interaction avec les faisceaux laser focalisés (1) un plasma, émettant un rayonnement dans l'extrême ultraviolet. Un dispositif récepteur (3) reçoit la cible (4) après son interaction avec les faisceaux laser focalisés (1), tandis qu'un dispositif collecteur (110) collecte le rayonnement EUV émis par la cible (4). Les éléments (11) de focalisation des faisceaux laser sur la cible (4) sont agencés de telle sorte que les faisceaux laser (1) soient focalisés latéralement sur la cible (4) en étant situés dans un même demi-espace par rapport à la cible (4) et en étant inclinés d'un angle prédéterminé compris entre environ 60° et 90° par rapport à un axe moyen de collecte (6) perpendiculaire à la cible (4). Le dispositif collecteur (110) est disposé symétriquement par rapport à l'axe moyen de collecte (6) dans le demi-espace contenant les faisceaux laser (1) focalisés sur la cible (4) et à l'intérieur d'un espace conique (8) centré sur l'axe moyen de collecte (6) avec un sommet situé sur la cible (4) et un demi-angle au sommet inférieur à l'angle d'inclinaison des faisceaux laser focalisés (1) par rapport à l'axe moyen de collecte (6). Le dispositif est applicable à une source de lithographie par rayonnement EUV pour la fabrication de circuits intégrés.


Device for generating extreme ultraviolet light and application to an extreme ultraviolet radiation lithography source
(WIPO link)

The invention concerns a device (2) for creating, in a vacuum space where laser beams (1) are focused, a substantially linear target capable of emitting by interaction with the focused laser beams (1) a plasma emitting an extreme ultraviolet radiation. A receiver device (3) receives the target (4) after its interaction with the focused laser beams (2), while a collector device (110) collects the EUV radiation emitted by the target (4). The elements (11) focusing the laser beams on the target (4) are arranged such that the laser beams (1) are focused laterally on the target (4) by being located in a common half-space relative to the target (4) and by being inclined at a predetermined angle between about 60° and 90° relative to a mean collecting axis (6) perpendicular to the target (4). The collector device (110) is arranged symmetrically relative to the means collecting axis (6) in the half-supace containing the laser beams (1) focused on the target (4) and inside a conical supace (8) centered on the mean collecting axis (6) with an apex located on the target (4) and a half-angle at apex smaller than the angle of inclination of the focused laser beams (1) relative to the mean collecting axis (6). The device is applicable to a EUV radiation lithography source for making integrated circuits.

Contact: M. Schmidt

14-09-2006

N° de publication internationale : WO 2006/095013 A1 (lien OMPI)

N° CEA BD1596

Date de dépôt 10-03-2005

Année de publication: 14-09-2006

Sytème bi-dimensionnel de détection (de neutrons) pour la spectrométrie de diffusion de neutrons

Ce brevet concerne un détecteur bi-dimensionnel de neutrons pour un dispositif de diffusion de neutrons. Le système complet comprend une source de neutrons monochromatique, un support adapté pour recevoir un échantillon, un dispositif de photoémission activé par la présence d'un faisceau de neutrons, et un système de détection bas niveau de type CCD (Charge Coupled Device) préamplifié et refroidi. Le système comprend de plus un dispositif de filtrage entre le support et le dispositif de photoémission, pour éliminer une partie substantielle du faisceau monochromatique direct transmis.

 


Two dimensional detection system for neutron radiation in the field of neutron scattering spectrometry (Lien WIPO)

 

A two-dimensional detection system for neutron radiation is disclosed. The detection system includes a means for emitting a neutron beam, a support means adapted for receiving a sample, a photoemission means adapted for being activated by a neutron radiation, and a cooled low light level charge-coupled detection device. The emission means emits a monochromatic neutron beam. The system further includes a filter means, the filter means being located between the support means and the photoemission means and being adapted for trapping at least a substantial part of the monochromatic neutron beam transmitted by the sample, and an amplification means located upstream the charge-coupled detection device and coupled with the charge-coupled detection device. 

Contact: Laurence NOIREZ

12-10-2006

Numéro d'identification : WO/2008/043918 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1743
Année de dépôt : 26-03-2002
Date de publication : 12-10-2006

Procédé en deux étapes de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

La première étape consiste en l'électrolyse d'une solution électrolytique, comprenant un primaire d'adhésion au contact de cette surface. La seconde étape correspond à la réaction, sur la surface préalablement obtenue, d'une solution contenant les espèces suivantes : un solvant protique et un monomère polymérisable par voie radicalaire. Le procédé est caractérisé par le fait que le monomère polymérisable est solubilisé sous forme micellaire. L'invention concerne également les surfaces obtenues par la mise en œuvre de ce procédé, leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que des kits de préparation d'un film organique copolymérique sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité.

 


Two-step method for forming organic films on electrically conducting surfaces from aqueous solutions
(WIPO link)

 

The invention relates to a method for preparing a copolymer organic film on an electrically conductive or semi-conductive surface in two steps. The first step comprises the electrolysis of an electrolytic solution containing an adhesion primer in contact with said surface, and the second step comprises the reaction on the surface previously obtained of a solution containing the following supecies: a protic solvent and a radical-polymerizable monomer; said method is characterised in that the polymerizable monomer is solubilized in a micellar form. The invention also relates to surfaces obtained by said method, to their application in particular for produci

Contact: G. Deniau

21-09-2006

Numéro d'identification : WO/2006/097611 (lien OMPI)
Numéro d'identification CEA BD 1612
Année de dépôt : 15-03-2005
Date de publication : 21-09-2006

Formation de films ultraminces greffés sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité

L'invention est relative à l'utilisation de précurseurs organiques comportant un groupe électroattracteur pour la formation, par greffage électrochimique, d'un film organique homogène, de préférence d'une épaisseur inférieure ou égale 10 nm, sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité ; ainsi qu'au procédé correspondant de formation d'un film organique homogène ultramince sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité.


Formation of ultra-thin films that are grafted to electrically-conducting or -semiconducting surfaces (WIPO link)

The invention relates to the use of organic precursors comprising an electroattractive group for the formation, by means of electrochemical grafting, of a uniform organic film, preferably having a thickness of less than or equal to 10nm, on an electrically-conducting or semiconducting surface. The invention also relates to the corresponding method of forming a uniform ultra-thin organic film on an electrically-conducting or semiconducting surface.

 Contact : S.Palacin

28-02-2006
S. Palacin et G. Deniau

Numéro d'identification : WO/2007/099218 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1660
Année de dépôt : 15-03-2005
Date de publication : 28-02-2006

Procédé de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

L'invention concerne des revêtements de surface sous la forme de films organiques. Elle est plus particulièrement relative à un procédé de formation de films organiques copolymériques par greffage électrochimique sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses électrolytiques renfermant au moins un solvant protique, un amorceur de polymérisation par voie radicalaire soluble dans le solvant protique, un monomère polymérisable par voie radicalaire et un tensioactif. L'invention concerne également les surfaces obtenues en mettant en œuvre ce procédé et leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que la solution électrolytique mise en œuvre au cours du procédé.



Method of forming organic films on electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous solutions(WIPO link)

 

The present invention relates to the field of surface coatings, said coatings being in the form of organic films. It relates more particularly to a method of forming copolymeric organic films by electrochemical grafting onto electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous electrolyte solutions containing at least one protic solvent, at least one radical polymerization initiator soluble in the protic solvent, at least one radical-polymerizable monomer, and at least one surfactant. The invention also relates to the surfaces obtained by implementing this method, to their applications, in particular for the preparation of microelectronic components, biomedical devices or screen kits, and also to the electrolyte solution employed during the method.

Contact: S. Palacin

 

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