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Patents 2006

Oct 12, 2006

Numéro d'identification : WO/2008/043918 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1743
Année de dépôt : 26-03-2002
Date de publication : 12-10-2006

Procédé en deux étapes de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

La première étape consiste en l'électrolyse d'une solution électrolytique, comprenant un primaire d'adhésion au contact de cette surface. La seconde étape correspond à la réaction, sur la surface préalablement obtenue, d'une solution contenant les espèces suivantes : un solvant protique et un monomère polymérisable par voie radicalaire. Le procédé est caractérisé par le fait que le monomère polymérisable est solubilisé sous forme micellaire. L'invention concerne également les surfaces obtenues par la mise en œuvre de ce procédé, leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que des kits de préparation d'un film organique copolymérique sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité.

 


Two-step method for forming organic films on electrically conducting surfaces from aqueous solutions
(WIPO link)

 

The invention relates to a method for preparing a copolymer organic film on an electrically conductive or semi-conductive surface in two steps. The first step comprises the electrolysis of an electrolytic solution containing an adhesion primer in contact with said surface, and the second step comprises the reaction on the surface previously obtained of a solution containing the following supecies: a protic solvent and a radical-polymerizable monomer; said method is characterised in that the polymerizable monomer is solubilized in a micellar form. The invention also relates to surfaces obtained by said method, to their application in particular for produci

Contact: G. Deniau

Sep 21, 2006

Numéro d'identification : WO/2006/097611 (lien OMPI)
Numéro d'identification CEA BD 1612
Année de dépôt : 15-03-2005
Date de publication : 21-09-2006

Formation de films ultraminces greffés sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité

L'invention est relative à l'utilisation de précurseurs organiques comportant un groupe électroattracteur pour la formation, par greffage électrochimique, d'un film organique homogène, de préférence d'une épaisseur inférieure ou égale 10 nm, sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité ; ainsi qu'au procédé correspondant de formation d'un film organique homogène ultramince sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité.


Formation of ultra-thin films that are grafted to electrically-conducting or -semiconducting surfaces (WIPO link)

The invention relates to the use of organic precursors comprising an electroattractive group for the formation, by means of electrochemical grafting, of a uniform organic film, preferably having a thickness of less than or equal to 10nm, on an electrically-conducting or semiconducting surface. The invention also relates to the corresponding method of forming a uniform ultra-thin organic film on an electrically-conducting or semiconducting surface.

 Contact : S.Palacin

Sep 14, 2006

N° de publication internationale : WO 2006/095013 A1 (lien OMPI)

N° CEA BD1596

Date de dépôt 10-03-2005

Année de publication: 14-09-2006

Sytème bi-dimensionnel de détection (de neutrons) pour la spectrométrie de diffusion de neutrons

Ce brevet concerne un détecteur bi-dimensionnel de neutrons pour un dispositif de diffusion de neutrons. Le système complet comprend une source de neutrons monochromatique, un support adapté pour recevoir un échantillon, un dispositif de photoémission activé par la présence d'un faisceau de neutrons, et un système de détection bas niveau de type CCD (Charge Coupled Device) préamplifié et refroidi. Le système comprend de plus un dispositif de filtrage entre le support et le dispositif de photoémission, pour éliminer une partie substantielle du faisceau monochromatique direct transmis.

 


Two dimensional detection system for neutron radiation in the field of neutron scattering spectrometry (Lien WIPO)

 

A two-dimensional detection system for neutron radiation is disclosed. The detection system includes a means for emitting a neutron beam, a support means adapted for receiving a sample, a photoemission means adapted for being activated by a neutron radiation, and a cooled low light level charge-coupled detection device. The emission means emits a monochromatic neutron beam. The system further includes a filter means, the filter means being located between the support means and the photoemission means and being adapted for trapping at least a substantial part of the monochromatic neutron beam transmitted by the sample, and an amplification means located upstream the charge-coupled detection device and coupled with the charge-coupled detection device. 

Contact: Laurence NOIREZ

Aug 03, 2006
L. Dubois et H. Desvaux

Numéro d'identification : WO/2006/079702 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification  CEA : BD1595
Date de dépôt : 27-01-2005
Date de publication : 03-08-2006

Procédé pour accroître le signal RMN d'une solution liquide en utilisant le champ dipolaire longue distance

L'invention se rapporte à un système et un procédé d'analyse RMN, pour l'obtention d'un signal RMN d'une solution liquide (1) accru par rapport à celui qu'il aurait en partant de l'équilibre thermodynamique. Ce but est atteint en ce que les inventeurs ont découvert d'une manière surprenante que si l'on irradie les supins des noyaux (9) d'une source de polarisation fortement polarisée (3) et les supins des noyaux (7) de ladite solution liquide (1) , de sorte à réaliser un transfert de polarisation de type Hartmann-Hahn des supins des noyaux (9) de ladite source (3) aux supins des noyaux (7) de ladite solution liquide (1) au moyen d'un couplage cohérent résultant du champ dipolaire créé par les noyaux de la source, alors on obtient un signal RMN de ladite solution liquide qui est accru d'une manière significative par rapport à la valeur qu'il aurait en partant de l'équilibre thermodynamique. 


Method for enhancing the nmr signal of a liquid solution using the long-range dipolar field
(WIPO link)

The invention relates to an NMR analysis system and method for obtaining an NMR signal from a liquid solution (1) enhanced in relation to the value that it would have on the basis of the thermodynamic equilibrium. It has been discovered in a surprising manner that if the supins of the cores (9) of a highly-polarised polarisation source (3) and the supins of the cores (7) of the liquid solution (1) are irradiated such that a polarisation transfer, such as a Hartmann-Hahn transfer, of the supins of the cores (9) of the source (3) to the supins of the cores (7) of the liquid solution (1) is carried out by means of a coherent coupling resulting from the dipolar field created by the cores of the source, an NMR signal of the liquid solution is obtained, said signal being significantly enhanced in relation to the value it would have on the basis of the thermodynamic equilibrium.

Contact: H. Desvaux"

Jul 06, 2006
M. Dubois et T. Zemb

Numéro de publication international Fr 2880032 (Lien OMPI)
Numéro d'identification CEA: BD 1433

Date de dépôt: 23-12-2004

Année de publication: 06-07-2006

Nanodisques catanioniques cristallisés stabilisés. Procédé de préparation et  applications

La présente invention porte sur le procédé de préparation de disques nanométriques ou micrométriques catanioniques cristallisés et stabilisés et à leur utilisation, notamment pour la formation de couches adsorbées utiles comme revêtement protecteur de surface, notamment contre la corrosion ou à titre de lubrifiant.

Stabilized crystallized catanionic nanodiscs, Method for preparing same and uses thereof (Lien WIPO)

The invention concerns a method for preparing stabilized crystallized catanionic nanometric or micrometric discs and their uses by forming adsorbed layers as surface coating for protection against corrosion, or as lubricant.

 Fichier PDF associé

Contact : David Carrière

May 18, 2006
F. Tenegal, B. Guizard, N Herlin- Boime et D.¨Porterat

Numéro d'identification : WO/2006/051233 (Lien OMPI et Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD
Année de dépôt : 09-11--2004
Date de publication : 18-05-2006

Système et procédé de production de poudres nanométriques ou sub-micrométriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser

L'invention porte sur un système de production de poudres nanométriques ou sub-micrométriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser dasn une zone d'interaction définie par un faisceau (11) laser (10) et un flux de réactifs (13) émis par un injecteur (14). Le laser est suivi par des moyens optiques (12) de répartition de l'énergie du faisceau selon un axe perpendiculaire à l'axe de chaque flux de réactifs, en une section allongée de dimensions réglables au niveau de la zone d'interaction. L'invention porte également sur le un procédé de production de telles poudres.

 


System and method for continuous flow production of nanometric or sub-micrometric powders by the action of a pyrolytic laser
(WIPO link)

 

The invention relates to a system for continuous flow production of nanometric or sub-micrometric powders, by the action of a pyrolytic laser in at least zone of interaction between a beam (11), emitted by a laser (10) and a flow of reactants (13), emitted by an injector (14), in which the laser is followed by optical means (12), for distribution of the energy of the beam emitted thereby along an axis perpendicular to the axis of each of the reactant flows in a long adjustable section at the level of said at least one interaction zone. The invention further relates to a method for production of said powders.

Contact: N. Herlin-Boime

Apr 27, 2006

Numéro d'identification: WO/2006/042839 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA: BD 1587
Date de dépôt: 18-10-2004

Année de publication: 27-04-2006

Procédé et appareil de mesures de champ magnétique au moyen d'un capteur magnétorésistant

L'invention concerne un dispositif permettant de mesurer un champ magnétique au moyen d'un capteur magnétorésistant et comprenant au moins un capteur magnétorésistant (5), un module (50) permettant de mesurer la résistance dudit capteur (5), un module générateur (40, 6) permettant de générer un champ magnétique supplémentaire dans l'espace renfermant le capteur magnétorésistant (5) et une unité de commande (60) permettant, dans un premier temps, de commander de manière sélective le module générateur (40, 6) afin qu'il applique une impulsion de champ magnétique supplémentaire possédant une première valeur dotée d'une première polarité soit positive, soit négative et une amplitude suffisante pour saturer le capteur magnétorésistant (5), puis permettant de commander de manière sélective la mesure de la résistance du capteur magnétorésistant (5) par le module (50), aux fins de mesure de la résistance.

 


A method and apparatus for magnetic field measurements using a magnetoresistive sensor
(
lien WIPO)

 

The device for measuring magnetic field by using a magnetoresistive sensor comprises at least one magnetoresistive sensor (5) , a module (50) for measuring the resistance of the magnetoresistive sensor (5) , a generator module (40, 6) for generating an additional magnetic field in the space containing the magnetoresistive sensor (5) , and a control unit (60) firstly for selectively controlling the generator module (40, 6) to apply an additional magnetic field pulse possessing a first value with first polarity that is positive or negative and magnitude that is sufficient to saturate the magnetoresistive sensor (5) , and secondly for selectively controlling measurement of the resistance of the magnetoresistive sensor (5) by the module (50) for measuring resistance.

 Contacts: C. Fermon et M Pannetier-Lecoeur

Mar 23, 2006

Numéro d'identification: WO/2006/029649 (Lien OMPI)
Numéro d'identification CEA : BD1567
Date de dépôt : 15-09-2004

Année de publication: 23-03-2006

Oscillateur pour hyperfréquences accordé avec un mince film ferromagnétique

L'invention concerne un oscillateur accordé pour hyperfréquences, faisant appel à un résonateur à mince film ferromagnétique, qui comprend: a) un résonateur hyperfréquences (1) comportant une plaque de résonance (110) à mince film ferromagnétique, comme un cristal YIG en forme de disque, placé sur un circuit intégré hyperfréquences (11), tel qu'un résonateur sur feuille à demi-longueur d'ondes; b) un moyen de champ magnétique de polarisation (12) pour appliquer un champ magnétique de polarisation à la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince; c) un élément actif pour assurer l'oscillation (21), un élément de retour réactif (24) et une charge (23, 25) régulée par les propriétés hyperfréquences de la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince, à travers une boucle de rétroaction de charge (4) et d) une boucle de rétroaction positive générale (3, 14, 15), connectée entre l'élément actif pour assurer l'oscillation (21) et le résonateur hyperfréquences (1) pour induire une oscillation soutenue à créer à une des résonances excitées par paramètres de la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince.

 


Microwave oscillator tuned with a ferromagnetic thin film
(
lien WIPO)

 

A microwave tuned oscillator utilizing a ferromagnetic thin film resonator comprises: a) a microwave resonator (1) comprising a ferromagnetic thin film resonance plate (110) such as a disc-shaped YIG crystal placed on a microwave integrated circuit (11), such as a half-wavelength strip-line resonator, b) bias magnetic field means (12) for applying a bias magnetic field perpendicular to the ferromagnetic thin film resonance plate (110), c) an active element for oscillation (21), a reactive feedback element (24) and a load (23, 25) controlled by the microwave properties of the ferromagnetic thin film resonance plate (110) through a load feedback loop (4), and d) an overall positive feedback loop (3, 14, 15) connected between the active element for oscillation (21) and the microwave resonator (1) to cause a sustained oscillation to build up at one of parametrically excited resonances of the ferromagnetic thin film resonance plate (110).

Contacts: O. Klein et V. Naletov

Mar 22, 2006
M. Bougeard, F. Quere et M. Servol

Numéro d'identification : WO/2006/021552 (Lien OMPI et Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1563
Année de dépôt : 27-08-2004
Date de publication : 02-03-2006  

Procédé et appareil pour générer un rayonnement ou des particules par interaction entre un faisceau laser et une cible 

Afin de générer un rayonnement ou des particules par interaction entre un faisceau laser et une cible, la cible choisie est un écoulement libre (5) dans une enceinte à vide (40) d'une poussière formée de grains solides d'une dimension de 10 µm à 1 mm et le faisceau laser (9), qui est un faisceau laser intense pulsé, est focalisé sur l'écoulement de poudre (5) qui avance uniquement par gravité, pour créer une zone d'interaction (8) générant le rayonnement ou les particules dans l'enceinte à vide (40), dans laquelle la pression interne est inférieure à 1 000 Pa.

 


A method and apparatus for generating radiation or particles by interaction between a laser beam and a target
(WIPO link)

 

To generate radiation or particles by interaction between a laser beam and a target, the selected target is a free flow (5) in a vacuum enclosure (40) of a powder made up of solid grains of size from 10 μm to 1 mm and the laser beam (9), which is an intense pulsed laser beam, is focused onto the powder flow (5) that is driven by gravity only, to create an interaction area (8) generating the radiation or the particles in the vacuum enclosure (40) , in which the internal pressure is less than 1000 Pa.

Contact: F. Quere

Feb 28, 2006
S. Palacin et G. Deniau

Numéro d'identification : WO/2007/099218 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1660
Année de dépôt : 15-03-2005
Date de publication : 28-02-2006

Procédé de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

L'invention concerne des revêtements de surface sous la forme de films organiques. Elle est plus particulièrement relative à un procédé de formation de films organiques copolymériques par greffage électrochimique sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses électrolytiques renfermant au moins un solvant protique, un amorceur de polymérisation par voie radicalaire soluble dans le solvant protique, un monomère polymérisable par voie radicalaire et un tensioactif. L'invention concerne également les surfaces obtenues en mettant en œuvre ce procédé et leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que la solution électrolytique mise en œuvre au cours du procédé.



Method of forming organic films on electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous solutions(WIPO link)

 

The present invention relates to the field of surface coatings, said coatings being in the form of organic films. It relates more particularly to a method of forming copolymeric organic films by electrochemical grafting onto electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous electrolyte solutions containing at least one protic solvent, at least one radical polymerization initiator soluble in the protic solvent, at least one radical-polymerizable monomer, and at least one surfactant. The invention also relates to the surfaces obtained by implementing this method, to their applications, in particular for the preparation of microelectronic components, biomedical devices or screen kits, and also to the electrolyte solution employed during the method.

Contact: S. Palacin

Feb 23, 2006
J. Borghetti, J.P. Bourgoin , P. Mordant, V. Derycke, A. Filoramo et M. Goffman,

Numéro d'identification : WO/2006/018497 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD: 1574
Année de dépôt : 20-07-2004
Date de publication : 23-02-2006

Dispositif semiconducteur à nanotube ou nanofil, configurable optiquement

L'invention concerne un dispositif semiconducteur comprenant au moins un nanotube ou un nanofil, notamment de carbone, ainsi qu'au moins deux électrodes, caractérisé en ce qu'elles comportent au moins un nanotube ou un nanofil semiconducteur ayant au moins une région au moins en partie recouverte d'une couche de molécules ou de nanocristaux d'un matériau photo-sensible, une liaison électrique entre les deux électrodes étant réalisée par au moins un nanotube ou un nanofil semiconducteur.


Optically-configurable nanotube or nanowire semiconductor device
(WIPO link)

The invention relates to a semiconductor device comprising at least one nanotube or nanowire, such as a carbon nanotube or nanowire, as well as two electrodes. The invention is characterized in that the device comprises at least one semiconductor nanotube or nanowire having at least one region which is at least partially covered with at least one layer of molecules or nanocrystals made from at least one photo-sensitive material. According to the invention, an electrical connection is provided between the two electrodes by at least one nanotube, namely the semiconductor nanotube or nanowire, and optionally at least one other nanotube or nanowire.

Contact: J.P. Bourgoin

Feb 23, 2006

Numéro d’identification WO/2006/018575 (lien WIPO)
Numéro d’identification CEA BD 13190              
Année de dépôt : 21.07.2005
Date de publication : 23.02.2006


Nanocomposite photoactif et son procede de fabrication

L'invention concerne un nanocomposite (3) photoactif comportant au moins un couple d'éléments semiconducteurs donneur-accepteur. L'un des éléments est formé de nanofils (7) dopés à structure sp3, et l'autre des éléments est un composé organique (8). Lesdits éléments sont supportés par un substrat (1 ) de dispositif. L'invention concerne aussi un procédé de fabrication. Selon un premier mode de réalisation, après leur croissance, les nanofils (7) sont prélevés, fonctionnalisés et sont solubilisés dans l'élément organique (8). Le mélange est déposé par enduction sur un substrat de dispositif. Selon un deuxième mode de réalisation, des nanofils (7) sont formés sur un substrat de croissance (5) qui est aussi le substrat de dispositif. L'élément organique (8) est associé aux nanofils (7) de façon à former une couche active (3). Un tel nanocomposite (3) photoactif permet la réalisation d'une cellule photovoltaïque.

Contact : Serge Palacin (SPCSI)


Photoactive nanocomposite and method for the production thereof (WIPO link)

The invention relates to a photoactive nanocomposite (3) comprising at least one pair of donor-acceptor semiconductor elements, wherein an element consists of a nanowires (7) doped with an sp3 structure and another element in embodied in the form of an organic compound (8). Said elements are carried by the substrate (1) of a device. A production method is also disclosed and consists, in a first embodiment, in picking, fonctionalising and solubilizing the grown nanowires in the organic element (8) and in depositing the mixture by coating on the device substrate. In the second embodiment, the nanowires (7) are formed on a growth substrate (5) which is embodied in the form of the device substrate. The organic element (8) is associated with the nanowires (7) in such a way that an active layer (3) is formed. The inventive photoactive nanocomposite makes it possible to produce a photovoltaic cell.

Contact: Serge Palacin (SPCSI)

Feb 22, 2006

Numéro d'identification : WO/2006/011013 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA : BD1555
Année de dépôt 16-07-2004

Année de publication: 22-02-2006

Dispositif de protection permettant de protéger un circuit contre une attaque mécanique et électromagnétique

Pour protéger un circuit contre une attaque mécanique ou électromagnétique, un dispositif de protection active fixé au circuit comprend : au moins un générateur servant à générer un champ magnétique, au moins un capteur magnétique S1, S2, S3, S4 servant à mesurer une valeur du champ magnétique, un circuit d'intégrité connecté au(x) capteur(s) magnétique(s) S1, S2, S3, S4 et au circuit. Le circuit d'intégrité active une procédure de réaction dans le circuit si la valeur du champ magnétique mesurée par le capteur magnétique sort d'un domaine de valeurs qui est corrélé au champ magnétique généré.

 


An active protection device for protecting circuit against mechanical and electromagnetic attack.
(Lien WIPO)

 

For protecting a circuit against a mechanical or electromagnetic attack, an active protection device attached to the circuit comprises: - at least one generator for generating a magnetic field, - at least one magnetic sensor S1, S2, S3, S4 for measuring a value of the magnetic field, - an integrity circuit connected to the at least one magnetic sensor S1, S2, S3, S4 and to the circuit. The integrity circuit activates a reaction procedure in the circuit if the measured value of the magnetic field made by the magnetic sensor is out of a values domain, the values domain being correlated to the generated magnetic field.

 Contact: C. Fermon

Jan 19, 2006
C. Radtke, M. Silly, P. Soukiassian et H. Enriquez

Numéro d'identification : WO/2006/005869 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1552
Année de dépôt : 21-06-2004
Date de publication : 19-01-2006 

Procédé de métallisation de surface préalablement passivée d'un matériau semi-conducteur et matériau obtenu par ce procédé

Procédé de métallisation d'une surface préalablement passivée d'un matériau semi-conducteur et matériau obtenu par ce procédé. Selon l'invention, qui s'applique notamment en microélectronique, on prépare la surface de matériau (2) de façon qu'elle possède des liaisons capables d'adsorber des atomes d'hydrogène ou d'un élément métallique, on passive une ou plusieurs couches, de préférence immédiatement sous-jacentes à la surface, en l'exposant à un composé de passivation, et l'on métallise la surface (4) en l'exposant à des atomes d'hydrogène ou de l'élément métallique. 


Method for metalizing a passivated surface of a semiconductor material and resulting material
(WIPO link)

The invention concerns a method for metalizing a passivated surface of a semiconductor material and resulting material. The invention, which is applicable in microelectronics, is characterized in that it consists in: preparing the surface of the material (2) so that it contains bonds capable of absorbing hydrogen atoms or a metal element, passivating one or more layers, preferably immediately underlying the surface, by exposing same to a passivating compound, and metalizing the surface (4) by exposing same to hydrogen atoms or the metal element.

Contact: P. Soukiassian

Jan 15, 2006
G. Cheymol, P. Cormont, P.Y. Thro, O. Sublemontier, M. Schmidt et B. Barthod

Numéro d'identification : WO/2006/000718 (lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD
Année de dépôt : 14-06-2004
Date de publication : 05-01-2006  

Dispositif de génération de lumière dans l'extrême ultraviolet (EUV) et application à une source de lithographie par rayonnement dans l'extrême ultraviolet

Le dispositif comprend un dispositif (2) pour créer, dans un espace sous vide où sont focalisés des faisceaux laser (1), une cible (4) linéaire, apte à produire par interaction avec les faisceaux laser focalisés (1) un plasma, émettant un rayonnement dans l'extrême ultraviolet. Un dispositif récepteur (3) reçoit la cible (4) après son interaction avec les faisceaux laser focalisés (1), tandis qu'un dispositif collecteur (110) collecte le rayonnement EUV émis par la cible (4). Les éléments (11) de focalisation des faisceaux laser sur la cible (4) sont agencés de telle sorte que les faisceaux laser (1) soient focalisés latéralement sur la cible (4) en étant situés dans un même demi-espace par rapport à la cible (4) et en étant inclinés d'un angle prédéterminé compris entre environ 60° et 90° par rapport à un axe moyen de collecte (6) perpendiculaire à la cible (4). Le dispositif collecteur (110) est disposé symétriquement par rapport à l'axe moyen de collecte (6) dans le demi-espace contenant les faisceaux laser (1) focalisés sur la cible (4) et à l'intérieur d'un espace conique (8) centré sur l'axe moyen de collecte (6) avec un sommet situé sur la cible (4) et un demi-angle au sommet inférieur à l'angle d'inclinaison des faisceaux laser focalisés (1) par rapport à l'axe moyen de collecte (6). Le dispositif est applicable à une source de lithographie par rayonnement EUV pour la fabrication de circuits intégrés.


Device for generating extreme ultraviolet light and application to an extreme ultraviolet radiation lithography source
(WIPO link)

The invention concerns a device (2) for creating, in a vacuum space where laser beams (1) are focused, a substantially linear target capable of emitting by interaction with the focused laser beams (1) a plasma emitting an extreme ultraviolet radiation. A receiver device (3) receives the target (4) after its interaction with the focused laser beams (2), while a collector device (110) collects the EUV radiation emitted by the target (4). The elements (11) focusing the laser beams on the target (4) are arranged such that the laser beams (1) are focused laterally on the target (4) by being located in a common half-space relative to the target (4) and by being inclined at a predetermined angle between about 60° and 90° relative to a mean collecting axis (6) perpendicular to the target (4). The collector device (110) is arranged symmetrically relative to the means collecting axis (6) in the half-supace containing the laser beams (1) focused on the target (4) and inside a conical supace (8) centered on the mean collecting axis (6) with an apex located on the target (4) and a half-angle at apex smaller than the angle of inclination of the focused laser beams (1) relative to the mean collecting axis (6). The device is applicable to a EUV radiation lithography source for making integrated circuits.

Contact: M. Schmidt

Jan 05, 2006
V. Aroutiounian, K. Martirosyan et P. Soukiassian

Numéro d'identification : WO/2006/000688 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1511
Année de dépôt : 02-06-2004
Date de publication : 05-01-2006 

Revêtements anti-réfléchissants pour piles solaires et procédé pour les fabriquer

L'invention propose un revêtement anti-­réfléchissant (20) comprenant, en combinaison, une couche interne (21) de silicium poreux anti­-réfléchissant et une couche externe (22) de carbone sous forme de diamant amorphe non poreuse et dépourvue d'espèces étrangères. Il est décrit également un procédé de fabrication d'un revêtement anti-réfléchissant, ainsi que son utilisation comme revêtement pour une pile solaire (10). Le revêtement est moins susceptible de se dégrader avec le temps et peut améliorer le domaine spectral de conversion efficace du rayonnement. 


Anti-reflecting coatings for solar batteries and method for the production thereof (WIPO link

The invention relates to an anti-reflecting coating (20) comprising a combined inner coating (21), made of anti-reflecting silicon, and outer coating (22) made of carbon in the form of an amorphous diamond which is essentially non-porous and essentially devoid of foreign species. The invention also relates to a method for the production of an anti-reflecting coating and to the use thereof as a coating for a solar batter (10). The coating is less likely to deteriorate with time and can improve the spectral domain of efficient conversion of radiation.

Contact: P. Soukiassian

Oct 12, 2006

Numéro d'identification : WO/2008/043918 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1743
Année de dépôt : 26-03-2002
Date de publication : 12-10-2006

Procédé en deux étapes de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

La première étape consiste en l'électrolyse d'une solution électrolytique, comprenant un primaire d'adhésion au contact de cette surface. La seconde étape correspond à la réaction, sur la surface préalablement obtenue, d'une solution contenant les espèces suivantes : un solvant protique et un monomère polymérisable par voie radicalaire. Le procédé est caractérisé par le fait que le monomère polymérisable est solubilisé sous forme micellaire. L'invention concerne également les surfaces obtenues par la mise en œuvre de ce procédé, leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que des kits de préparation d'un film organique copolymérique sur une surface conductrice ou semi-conductrice de l'électricité.

 


Two-step method for forming organic films on electrically conducting surfaces from aqueous solutions
(WIPO link)

 

The invention relates to a method for preparing a copolymer organic film on an electrically conductive or semi-conductive surface in two steps. The first step comprises the electrolysis of an electrolytic solution containing an adhesion primer in contact with said surface, and the second step comprises the reaction on the surface previously obtained of a solution containing the following supecies: a protic solvent and a radical-polymerizable monomer; said method is characterised in that the polymerizable monomer is solubilized in a micellar form. The invention also relates to surfaces obtained by said method, to their application in particular for produci

Contact: G. Deniau

Feb 28, 2006
S. Palacin et G. Deniau

Numéro d'identification : WO/2007/099218 (Lien OMPI, fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1660
Année de dépôt : 15-03-2005
Date de publication : 28-02-2006

Procédé de formation de films organiques sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses

L'invention concerne des revêtements de surface sous la forme de films organiques. Elle est plus particulièrement relative à un procédé de formation de films organiques copolymériques par greffage électrochimique sur des surfaces conductrices ou semi-conductrices de l'électricité à partir de solutions aqueuses électrolytiques renfermant au moins un solvant protique, un amorceur de polymérisation par voie radicalaire soluble dans le solvant protique, un monomère polymérisable par voie radicalaire et un tensioactif. L'invention concerne également les surfaces obtenues en mettant en œuvre ce procédé et leurs applications, notamment pour la préparation de composants microélectroniques, de dispositifs biomédicaux ou de kits de criblage, ainsi que la solution électrolytique mise en œuvre au cours du procédé.



Method of forming organic films on electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous solutions(WIPO link)

 

The present invention relates to the field of surface coatings, said coatings being in the form of organic films. It relates more particularly to a method of forming copolymeric organic films by electrochemical grafting onto electrically conducting or semiconducting surfaces from aqueous electrolyte solutions containing at least one protic solvent, at least one radical polymerization initiator soluble in the protic solvent, at least one radical-polymerizable monomer, and at least one surfactant. The invention also relates to the surfaces obtained by implementing this method, to their applications, in particular for the preparation of microelectronic components, biomedical devices or screen kits, and also to the electrolyte solution employed during the method.

Contact: S. Palacin

Feb 23, 2006

Numéro d’identification WO/2006/018575 (lien WIPO)
Numéro d’identification CEA BD 13190              
Année de dépôt : 21.07.2005
Date de publication : 23.02.2006


Nanocomposite photoactif et son procede de fabrication

L'invention concerne un nanocomposite (3) photoactif comportant au moins un couple d'éléments semiconducteurs donneur-accepteur. L'un des éléments est formé de nanofils (7) dopés à structure sp3, et l'autre des éléments est un composé organique (8). Lesdits éléments sont supportés par un substrat (1 ) de dispositif. L'invention concerne aussi un procédé de fabrication. Selon un premier mode de réalisation, après leur croissance, les nanofils (7) sont prélevés, fonctionnalisés et sont solubilisés dans l'élément organique (8). Le mélange est déposé par enduction sur un substrat de dispositif. Selon un deuxième mode de réalisation, des nanofils (7) sont formés sur un substrat de croissance (5) qui est aussi le substrat de dispositif. L'élément organique (8) est associé aux nanofils (7) de façon à former une couche active (3). Un tel nanocomposite (3) photoactif permet la réalisation d'une cellule photovoltaïque.

Contact : Serge Palacin (SPCSI)


Photoactive nanocomposite and method for the production thereof (WIPO link)

The invention relates to a photoactive nanocomposite (3) comprising at least one pair of donor-acceptor semiconductor elements, wherein an element consists of a nanowires (7) doped with an sp3 structure and another element in embodied in the form of an organic compound (8). Said elements are carried by the substrate (1) of a device. A production method is also disclosed and consists, in a first embodiment, in picking, fonctionalising and solubilizing the grown nanowires in the organic element (8) and in depositing the mixture by coating on the device substrate. In the second embodiment, the nanowires (7) are formed on a growth substrate (5) which is embodied in the form of the device substrate. The organic element (8) is associated with the nanowires (7) in such a way that an active layer (3) is formed. The inventive photoactive nanocomposite makes it possible to produce a photovoltaic cell.

Contact: Serge Palacin (SPCSI)

Jan 19, 2006
C. Radtke, M. Silly, P. Soukiassian et H. Enriquez

Numéro d'identification : WO/2006/005869 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1552
Année de dépôt : 21-06-2004
Date de publication : 19-01-2006 

Procédé de métallisation de surface préalablement passivée d'un matériau semi-conducteur et matériau obtenu par ce procédé

Procédé de métallisation d'une surface préalablement passivée d'un matériau semi-conducteur et matériau obtenu par ce procédé. Selon l'invention, qui s'applique notamment en microélectronique, on prépare la surface de matériau (2) de façon qu'elle possède des liaisons capables d'adsorber des atomes d'hydrogène ou d'un élément métallique, on passive une ou plusieurs couches, de préférence immédiatement sous-jacentes à la surface, en l'exposant à un composé de passivation, et l'on métallise la surface (4) en l'exposant à des atomes d'hydrogène ou de l'élément métallique. 


Method for metalizing a passivated surface of a semiconductor material and resulting material
(WIPO link)

The invention concerns a method for metalizing a passivated surface of a semiconductor material and resulting material. The invention, which is applicable in microelectronics, is characterized in that it consists in: preparing the surface of the material (2) so that it contains bonds capable of absorbing hydrogen atoms or a metal element, passivating one or more layers, preferably immediately underlying the surface, by exposing same to a passivating compound, and metalizing the surface (4) by exposing same to hydrogen atoms or the metal element.

Contact: P. Soukiassian

Jan 05, 2006
V. Aroutiounian, K. Martirosyan et P. Soukiassian

Numéro d'identification : WO/2006/000688 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD 1511
Année de dépôt : 02-06-2004
Date de publication : 05-01-2006 

Revêtements anti-réfléchissants pour piles solaires et procédé pour les fabriquer

L'invention propose un revêtement anti-­réfléchissant (20) comprenant, en combinaison, une couche interne (21) de silicium poreux anti­-réfléchissant et une couche externe (22) de carbone sous forme de diamant amorphe non poreuse et dépourvue d'espèces étrangères. Il est décrit également un procédé de fabrication d'un revêtement anti-réfléchissant, ainsi que son utilisation comme revêtement pour une pile solaire (10). Le revêtement est moins susceptible de se dégrader avec le temps et peut améliorer le domaine spectral de conversion efficace du rayonnement. 


Anti-reflecting coatings for solar batteries and method for the production thereof (WIPO link

The invention relates to an anti-reflecting coating (20) comprising a combined inner coating (21), made of anti-reflecting silicon, and outer coating (22) made of carbon in the form of an amorphous diamond which is essentially non-porous and essentially devoid of foreign species. The invention also relates to a method for the production of an anti-reflecting coating and to the use thereof as a coating for a solar batter (10). The coating is less likely to deteriorate with time and can improve the spectral domain of efficient conversion of radiation.

Contact: P. Soukiassian

May 18, 2006
F. Tenegal, B. Guizard, N Herlin- Boime et D.¨Porterat

Numéro d'identification : WO/2006/051233 (Lien OMPI et Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD
Année de dépôt : 09-11--2004
Date de publication : 18-05-2006

Système et procédé de production de poudres nanométriques ou sub-micrométriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser

L'invention porte sur un système de production de poudres nanométriques ou sub-micrométriques en flux continu sous l'action d'une pyrolyse laser dasn une zone d'interaction définie par un faisceau (11) laser (10) et un flux de réactifs (13) émis par un injecteur (14). Le laser est suivi par des moyens optiques (12) de répartition de l'énergie du faisceau selon un axe perpendiculaire à l'axe de chaque flux de réactifs, en une section allongée de dimensions réglables au niveau de la zone d'interaction. L'invention porte également sur le un procédé de production de telles poudres.

 


System and method for continuous flow production of nanometric or sub-micrometric powders by the action of a pyrolytic laser
(WIPO link)

 

The invention relates to a system for continuous flow production of nanometric or sub-micrometric powders, by the action of a pyrolytic laser in at least zone of interaction between a beam (11), emitted by a laser (10) and a flow of reactants (13), emitted by an injector (14), in which the laser is followed by optical means (12), for distribution of the energy of the beam emitted thereby along an axis perpendicular to the axis of each of the reactant flows in a long adjustable section at the level of said at least one interaction zone. The invention further relates to a method for production of said powders.

Contact: N. Herlin-Boime

Mar 22, 2006
M. Bougeard, F. Quere et M. Servol

Numéro d'identification : WO/2006/021552 (Lien OMPI et Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1563
Année de dépôt : 27-08-2004
Date de publication : 02-03-2006  

Procédé et appareil pour générer un rayonnement ou des particules par interaction entre un faisceau laser et une cible 

Afin de générer un rayonnement ou des particules par interaction entre un faisceau laser et une cible, la cible choisie est un écoulement libre (5) dans une enceinte à vide (40) d'une poussière formée de grains solides d'une dimension de 10 µm à 1 mm et le faisceau laser (9), qui est un faisceau laser intense pulsé, est focalisé sur l'écoulement de poudre (5) qui avance uniquement par gravité, pour créer une zone d'interaction (8) générant le rayonnement ou les particules dans l'enceinte à vide (40), dans laquelle la pression interne est inférieure à 1 000 Pa.

 


A method and apparatus for generating radiation or particles by interaction between a laser beam and a target
(WIPO link)

 

To generate radiation or particles by interaction between a laser beam and a target, the selected target is a free flow (5) in a vacuum enclosure (40) of a powder made up of solid grains of size from 10 μm to 1 mm and the laser beam (9), which is an intense pulsed laser beam, is focused onto the powder flow (5) that is driven by gravity only, to create an interaction area (8) generating the radiation or the particles in the vacuum enclosure (40) , in which the internal pressure is less than 1000 Pa.

Contact: F. Quere

Jan 15, 2006
G. Cheymol, P. Cormont, P.Y. Thro, O. Sublemontier, M. Schmidt et B. Barthod

Numéro d'identification : WO/2006/000718 (lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD
Année de dépôt : 14-06-2004
Date de publication : 05-01-2006  

Dispositif de génération de lumière dans l'extrême ultraviolet (EUV) et application à une source de lithographie par rayonnement dans l'extrême ultraviolet

Le dispositif comprend un dispositif (2) pour créer, dans un espace sous vide où sont focalisés des faisceaux laser (1), une cible (4) linéaire, apte à produire par interaction avec les faisceaux laser focalisés (1) un plasma, émettant un rayonnement dans l'extrême ultraviolet. Un dispositif récepteur (3) reçoit la cible (4) après son interaction avec les faisceaux laser focalisés (1), tandis qu'un dispositif collecteur (110) collecte le rayonnement EUV émis par la cible (4). Les éléments (11) de focalisation des faisceaux laser sur la cible (4) sont agencés de telle sorte que les faisceaux laser (1) soient focalisés latéralement sur la cible (4) en étant situés dans un même demi-espace par rapport à la cible (4) et en étant inclinés d'un angle prédéterminé compris entre environ 60° et 90° par rapport à un axe moyen de collecte (6) perpendiculaire à la cible (4). Le dispositif collecteur (110) est disposé symétriquement par rapport à l'axe moyen de collecte (6) dans le demi-espace contenant les faisceaux laser (1) focalisés sur la cible (4) et à l'intérieur d'un espace conique (8) centré sur l'axe moyen de collecte (6) avec un sommet situé sur la cible (4) et un demi-angle au sommet inférieur à l'angle d'inclinaison des faisceaux laser focalisés (1) par rapport à l'axe moyen de collecte (6). Le dispositif est applicable à une source de lithographie par rayonnement EUV pour la fabrication de circuits intégrés.


Device for generating extreme ultraviolet light and application to an extreme ultraviolet radiation lithography source
(WIPO link)

The invention concerns a device (2) for creating, in a vacuum space where laser beams (1) are focused, a substantially linear target capable of emitting by interaction with the focused laser beams (1) a plasma emitting an extreme ultraviolet radiation. A receiver device (3) receives the target (4) after its interaction with the focused laser beams (2), while a collector device (110) collects the EUV radiation emitted by the target (4). The elements (11) focusing the laser beams on the target (4) are arranged such that the laser beams (1) are focused laterally on the target (4) by being located in a common half-space relative to the target (4) and by being inclined at a predetermined angle between about 60° and 90° relative to a mean collecting axis (6) perpendicular to the target (4). The collector device (110) is arranged symmetrically relative to the means collecting axis (6) in the half-supace containing the laser beams (1) focused on the target (4) and inside a conical supace (8) centered on the mean collecting axis (6) with an apex located on the target (4) and a half-angle at apex smaller than the angle of inclination of the focused laser beams (1) relative to the mean collecting axis (6). The device is applicable to a EUV radiation lithography source for making integrated circuits.

Contact: M. Schmidt

Aug 03, 2006
L. Dubois et H. Desvaux

Numéro d'identification : WO/2006/079702 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification  CEA : BD1595
Date de dépôt : 27-01-2005
Date de publication : 03-08-2006

Procédé pour accroître le signal RMN d'une solution liquide en utilisant le champ dipolaire longue distance

L'invention se rapporte à un système et un procédé d'analyse RMN, pour l'obtention d'un signal RMN d'une solution liquide (1) accru par rapport à celui qu'il aurait en partant de l'équilibre thermodynamique. Ce but est atteint en ce que les inventeurs ont découvert d'une manière surprenante que si l'on irradie les supins des noyaux (9) d'une source de polarisation fortement polarisée (3) et les supins des noyaux (7) de ladite solution liquide (1) , de sorte à réaliser un transfert de polarisation de type Hartmann-Hahn des supins des noyaux (9) de ladite source (3) aux supins des noyaux (7) de ladite solution liquide (1) au moyen d'un couplage cohérent résultant du champ dipolaire créé par les noyaux de la source, alors on obtient un signal RMN de ladite solution liquide qui est accru d'une manière significative par rapport à la valeur qu'il aurait en partant de l'équilibre thermodynamique. 


Method for enhancing the nmr signal of a liquid solution using the long-range dipolar field
(WIPO link)

The invention relates to an NMR analysis system and method for obtaining an NMR signal from a liquid solution (1) enhanced in relation to the value that it would have on the basis of the thermodynamic equilibrium. It has been discovered in a surprising manner that if the supins of the cores (9) of a highly-polarised polarisation source (3) and the supins of the cores (7) of the liquid solution (1) are irradiated such that a polarisation transfer, such as a Hartmann-Hahn transfer, of the supins of the cores (9) of the source (3) to the supins of the cores (7) of the liquid solution (1) is carried out by means of a coherent coupling resulting from the dipolar field created by the cores of the source, an NMR signal of the liquid solution is obtained, said signal being significantly enhanced in relation to the value it would have on the basis of the thermodynamic equilibrium.

Contact: H. Desvaux"

Jul 06, 2006
M. Dubois et T. Zemb

Numéro de publication international Fr 2880032 (Lien OMPI)
Numéro d'identification CEA: BD 1433

Date de dépôt: 23-12-2004

Année de publication: 06-07-2006

Nanodisques catanioniques cristallisés stabilisés. Procédé de préparation et  applications

La présente invention porte sur le procédé de préparation de disques nanométriques ou micrométriques catanioniques cristallisés et stabilisés et à leur utilisation, notamment pour la formation de couches adsorbées utiles comme revêtement protecteur de surface, notamment contre la corrosion ou à titre de lubrifiant.

Stabilized crystallized catanionic nanodiscs, Method for preparing same and uses thereof (Lien WIPO)

The invention concerns a method for preparing stabilized crystallized catanionic nanometric or micrometric discs and their uses by forming adsorbed layers as surface coating for protection against corrosion, or as lubricant.

 Fichier PDF associé

Contact : David Carrière

Apr 27, 2006

Numéro d'identification: WO/2006/042839 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA: BD 1587
Date de dépôt: 18-10-2004

Année de publication: 27-04-2006

Procédé et appareil de mesures de champ magnétique au moyen d'un capteur magnétorésistant

L'invention concerne un dispositif permettant de mesurer un champ magnétique au moyen d'un capteur magnétorésistant et comprenant au moins un capteur magnétorésistant (5), un module (50) permettant de mesurer la résistance dudit capteur (5), un module générateur (40, 6) permettant de générer un champ magnétique supplémentaire dans l'espace renfermant le capteur magnétorésistant (5) et une unité de commande (60) permettant, dans un premier temps, de commander de manière sélective le module générateur (40, 6) afin qu'il applique une impulsion de champ magnétique supplémentaire possédant une première valeur dotée d'une première polarité soit positive, soit négative et une amplitude suffisante pour saturer le capteur magnétorésistant (5), puis permettant de commander de manière sélective la mesure de la résistance du capteur magnétorésistant (5) par le module (50), aux fins de mesure de la résistance.

 


A method and apparatus for magnetic field measurements using a magnetoresistive sensor
(
lien WIPO)

 

The device for measuring magnetic field by using a magnetoresistive sensor comprises at least one magnetoresistive sensor (5) , a module (50) for measuring the resistance of the magnetoresistive sensor (5) , a generator module (40, 6) for generating an additional magnetic field in the space containing the magnetoresistive sensor (5) , and a control unit (60) firstly for selectively controlling the generator module (40, 6) to apply an additional magnetic field pulse possessing a first value with first polarity that is positive or negative and magnitude that is sufficient to saturate the magnetoresistive sensor (5) , and secondly for selectively controlling measurement of the resistance of the magnetoresistive sensor (5) by the module (50) for measuring resistance.

 Contacts: C. Fermon et M Pannetier-Lecoeur

Mar 23, 2006

Numéro d'identification: WO/2006/029649 (Lien OMPI)
Numéro d'identification CEA : BD1567
Date de dépôt : 15-09-2004

Année de publication: 23-03-2006

Oscillateur pour hyperfréquences accordé avec un mince film ferromagnétique

L'invention concerne un oscillateur accordé pour hyperfréquences, faisant appel à un résonateur à mince film ferromagnétique, qui comprend: a) un résonateur hyperfréquences (1) comportant une plaque de résonance (110) à mince film ferromagnétique, comme un cristal YIG en forme de disque, placé sur un circuit intégré hyperfréquences (11), tel qu'un résonateur sur feuille à demi-longueur d'ondes; b) un moyen de champ magnétique de polarisation (12) pour appliquer un champ magnétique de polarisation à la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince; c) un élément actif pour assurer l'oscillation (21), un élément de retour réactif (24) et une charge (23, 25) régulée par les propriétés hyperfréquences de la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince, à travers une boucle de rétroaction de charge (4) et d) une boucle de rétroaction positive générale (3, 14, 15), connectée entre l'élément actif pour assurer l'oscillation (21) et le résonateur hyperfréquences (1) pour induire une oscillation soutenue à créer à une des résonances excitées par paramètres de la plaque de résonance (110) à film ferromagnétique mince.

 


Microwave oscillator tuned with a ferromagnetic thin film
(
lien WIPO)

 

A microwave tuned oscillator utilizing a ferromagnetic thin film resonator comprises: a) a microwave resonator (1) comprising a ferromagnetic thin film resonance plate (110) such as a disc-shaped YIG crystal placed on a microwave integrated circuit (11), such as a half-wavelength strip-line resonator, b) bias magnetic field means (12) for applying a bias magnetic field perpendicular to the ferromagnetic thin film resonance plate (110), c) an active element for oscillation (21), a reactive feedback element (24) and a load (23, 25) controlled by the microwave properties of the ferromagnetic thin film resonance plate (110) through a load feedback loop (4), and d) an overall positive feedback loop (3, 14, 15) connected between the active element for oscillation (21) and the microwave resonator (1) to cause a sustained oscillation to build up at one of parametrically excited resonances of the ferromagnetic thin film resonance plate (110).

Contacts: O. Klein et V. Naletov

Feb 23, 2006
J. Borghetti, J.P. Bourgoin , P. Mordant, V. Derycke, A. Filoramo et M. Goffman,

Numéro d'identification : WO/2006/018497 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD: 1574
Année de dépôt : 20-07-2004
Date de publication : 23-02-2006

Dispositif semiconducteur à nanotube ou nanofil, configurable optiquement

L'invention concerne un dispositif semiconducteur comprenant au moins un nanotube ou un nanofil, notamment de carbone, ainsi qu'au moins deux électrodes, caractérisé en ce qu'elles comportent au moins un nanotube ou un nanofil semiconducteur ayant au moins une région au moins en partie recouverte d'une couche de molécules ou de nanocristaux d'un matériau photo-sensible, une liaison électrique entre les deux électrodes étant réalisée par au moins un nanotube ou un nanofil semiconducteur.


Optically-configurable nanotube or nanowire semiconductor device
(WIPO link)

The invention relates to a semiconductor device comprising at least one nanotube or nanowire, such as a carbon nanotube or nanowire, as well as two electrodes. The invention is characterized in that the device comprises at least one semiconductor nanotube or nanowire having at least one region which is at least partially covered with at least one layer of molecules or nanocrystals made from at least one photo-sensitive material. According to the invention, an electrical connection is provided between the two electrodes by at least one nanotube, namely the semiconductor nanotube or nanowire, and optionally at least one other nanotube or nanowire.

Contact: J.P. Bourgoin

Feb 22, 2006

Numéro d'identification : WO/2006/011013 (Lien OMPI, Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA : BD1555
Année de dépôt 16-07-2004

Année de publication: 22-02-2006

Dispositif de protection permettant de protéger un circuit contre une attaque mécanique et électromagnétique

Pour protéger un circuit contre une attaque mécanique ou électromagnétique, un dispositif de protection active fixé au circuit comprend : au moins un générateur servant à générer un champ magnétique, au moins un capteur magnétique S1, S2, S3, S4 servant à mesurer une valeur du champ magnétique, un circuit d'intégrité connecté au(x) capteur(s) magnétique(s) S1, S2, S3, S4 et au circuit. Le circuit d'intégrité active une procédure de réaction dans le circuit si la valeur du champ magnétique mesurée par le capteur magnétique sort d'un domaine de valeurs qui est corrélé au champ magnétique généré.

 


An active protection device for protecting circuit against mechanical and electromagnetic attack.
(Lien WIPO)

 

For protecting a circuit against a mechanical or electromagnetic attack, an active protection device attached to the circuit comprises: - at least one generator for generating a magnetic field, - at least one magnetic sensor S1, S2, S3, S4 for measuring a value of the magnetic field, - an integrity circuit connected to the at least one magnetic sensor S1, S2, S3, S4 and to the circuit. The integrity circuit activates a reaction procedure in the circuit if the measured value of the magnetic field made by the magnetic sensor is out of a values domain, the values domain being correlated to the generated magnetic field.

 Contact: C. Fermon

Feb 23, 2006

Numéro d’identification WO/2006/018575 (lien WIPO)
Numéro d’identification CEA BD 13190              
Année de dépôt : 21.07.2005
Date de publication : 23.02.2006


Nanocomposite photoactif et son procede de fabrication

L'invention concerne un nanocomposite (3) photoactif comportant au moins un couple d'éléments semiconducteurs donneur-accepteur. L'un des éléments est formé de nanofils (7) dopés à structure sp3, et l'autre des éléments est un composé organique (8). Lesdits éléments sont supportés par un substrat (1 ) de dispositif. L'invention concerne aussi un procédé de fabrication. Selon un premier mode de réalisation, après leur croissance, les nanofils (7) sont prélevés, fonctionnalisés et sont solubilisés dans l'élément organique (8). Le mélange est déposé par enduction sur un substrat de dispositif. Selon un deuxième mode de réalisation, des nanofils (7) sont formés sur un substrat de croissance (5) qui est aussi le substrat de dispositif. L'élément organique (8) est associé aux nanofils (7) de façon à former une couche active (3). Un tel nanocomposite (3) photoactif permet la réalisation d'une cellule photovoltaïque.

Contact : Serge Palacin (SPCSI)


Photoactive nanocomposite and method for the production thereof (WIPO link)

The invention relates to a photoactive nanocomposite (3) comprising at least one pair of donor-acceptor semiconductor elements, wherein an element consists of a nanowires (7) doped with an sp3 structure and another element in embodied in the form of an organic compound (8). Said elements are carried by the substrate (1) of a device. A production method is also disclosed and consists, in a first embodiment, in picking, fonctionalising and solubilizing the grown nanowires in the organic element (8) and in depositing the mixture by coating on the device substrate. In the second embodiment, the nanowires (7) are formed on a growth substrate (5) which is embodied in the form of the device substrate. The organic element (8) is associated with the nanowires (7) in such a way that an active layer (3) is formed. The inventive photoactive nanocomposite makes it possible to produce a photovoltaic cell.

Contact: Serge Palacin (SPCSI)

 

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