Procédé de fabrication d'un condensateur à nanofils interdigités dans une membrane nanoporeuse

L'invention concerne la conception d'un condensateur à nanofils inter-digités 3D. Les nanofils sont électrodéposés dans une membrane conventionnelle. L'électrodéposition est réalisée en utilisant un masque qui est également une membrane. La superposition des deux membranes permet la croissance de nanofils dans chaque canal constitué par liaison d'un pore de la membrane objet avec un pore de la membrane masque. Par le hasard, seul une partie des pores de la membrane objet forme des canaux avec des pores de la membrane masque. L'électrodéposition est arrêtée avant que les nanofils ne remplissent la membrane objet. Le masque est ensuite retiré. Un film d'or est ensuite pulvérisé sur la face, qui était libre, de la membrane objet. Une seconde électrodéposition est effectuée dans les pores qui étaient auparavant bloqués par le masque. Là encore, le dépôt est arrêté avant que les nanofils ne remplissent les pores. Un film d'or est enfin pulvérisé sur le côté qui était en contact avec le masque.

Contact : Travis Wade (LSI/NEE).

The invention relates to the design of a 3D capacitor comprising inter-digitated nanowires. The nanowires are electrodeposited in a conventional membrane. The electrodeposition is carried out using a mask that is also a membrane. The superposition of the two membranes allows nanowires to be grown in each channel formed by linking a pore of the object membrane with a pore of the mask membrane. By chance, only some of the pores of the object membrane form channels with pores of the mask membrane. The electrodeposition is stopped before the nanowires fill the object membrane. The mask is then removed. A gold film is then sputtered onto the face, which was free, of the object membrane. A second electrodeposition is carried out in the pores that were blocked beforehand by the mask. Once again, deposition is stopped before the nanowires fill the pores. Lastly, a gold film is sputtered onto the side that made contact with the mask.

Contact: Travis Wade (LSI/NEE).