Depuis plus de 20 ans, les miroirs multicouches X-UV sont devenus des composants optiques incontournables dans de nombreux domaines scientifiques et technologiques : optiques pour rayonnement synchrotron, optiques pour les nouvelles sources X (HHG, laser X), diagnostiques de plasma chaud (projet laser MégaJoule), physique solaire (télescopes imageurs EUV), microscopie X, lithographie EUV, analyse X, etc. Ils constituent en fait l’unique moyen d’obtenir des optiques efficaces fonctionnant à des angles d’incidence non rasants dans la gamme spectrale X-UV (1 à 60 nm). L’amélioration et la fiabilisation des techniques de dépôts de couches minces d’une part, le développement des méthodes de conception des empilements et d’analyse des matériaux et des interfaces d’autre part, permettent aujourd’hui de concevoir de nouvelles fonctions optiques dans le domaine X-UV : filtrage sélectif, déphasage, rejet de certaines bandes de longueur d’onde, etc ... Après un bref état de l’art sur les performances actuelles des miroirs multicouches, nous présenterons les avancées récentes en conception, réalisation et caractérisation des miroirs multicouches dans le domaine X-UV. Nous détaillerons notamment quelques exemples de nouvelles fonctions optiques réalisables : miroirs bibandes pour des applications en astrophysique, miroirs sélectifs à grande pureté spectrale pour le filtrage d’harmoniques d’ordre élevée, miroirs large bande à phase contrôlée pour le transport et la compression d’impulsions attosecondes.