CEA
Centre Paris-Saclay
DRF Internet
Iramis
Cimap
LiDyl
LLB
LSI
Nimbe
Spec
|
VPN (Σigma - THOT - HORUS) |
Webmail :
Intra
Extra
|
Service de Physique de l'Etat Condensé
Groupes de recherche
Groupes / Thématiques
Laboratoire de Cryogénie - LC
Laboratoire d'Electronique et Traitement du Signal - LETS
Laboratoire Nano-Magnétisme et Oxydes - LNO
Laboratoire d'Electronique et nanoPhotonique Organique - LEPO
Laboratoire d'Etude des NanoStructures et Imagerie de Surface - LENSIS
Systèmes Physiques Hors-équilibre, Hydrodynamique, Energie et Complexes - SPHYNX
Groupe Nanoélectronique - GNE
Groupe Quantronique - GQ
Groupe Modélisation et Théorie - GMT
Vie du service
Sur vos agendas
Dépêches
Séminaires
Soutenances de thèse et HDR
Faits marquants
Prix-distinctions
Documentation
Publications SPEC
Brevets
Thèse SPEC
Cours et documents pédagogiques
Communication grand public
Emplois-Stages-Thèses-PhD
Sujets de stage (thématiques)
Sujets de stage (par équipes)
Sujets de thèse (PhD)
PhD subjects
Post-doc
Pratique
Contact
Accès
Plan du site
«
Domaines Techniques
L'Atelier de Nanofabrication du SPEC (AdN)
Équipements de l'AdN
Équipe de l'AdN
Faits marquants scientifiques
Images
Équipements de l'AdN
Lithographie optique
Système de lithographie par écriture directe UV Heidelberg µMLA (2019)
Système de lithographie laser KLOE Dilase 650 (2011)
Aligneur de masques Suss Microtec MJB4 (2007)
Aligneur de masques Karl Suss MJB3 (1988)
Tournettes Suss Microtec LabSpin6 sous flux laminaire (x 2)
Lithographie électronique
Système de lithographie Raith E-Line (2008)
Microscope électronique FEI XL30 SFEG (1998)
+ système de lithographie Raith Elphy
Dépôt de couches minces
Évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 450 (1990) [Al, Au, Ti, Pt, Pd, Ag, Cu]
Évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 550S (2007) [Al, Au, Ti, Pt, Cu, V]
Évaporateur joule Zivy (1987 reconditionné en 2000) [Au, Ti, Ge, Ni]
Pulvérisation DC Alcatel SCM400 (1987) [Al, Nb, Ti, Ta]
Pulverisation RF Plassys MP300 monocible pour isolants [SiO
2
, SiN, Al
2
O
3
, NbTiN, TiN]
Bâti UHV Méca 2000, évaporation canon à électrons, pulvérisation RF multicibles, usinage ionique.
Gravure humide
Sorbonnes de chimie avec extraction (x 5)
Gravure sèche
Bâti de gravure RIE Plassys MG200 (1989)
[SF6, CHF3, CF4, O2, Ar]
Délaqueuse (downstream stripper) [O2]
Canon à ion couplé à un SIMS [Ar]
Caractérisation
Profilomètre KLA tencor
AFM 5500LS Stage -Keysight
Mesureur d'épaisseur par éllipsométrie Filmetrics
Testeuse sous pointes Karl Suss
Microscopes optiques avec enregistrement numérique (x 5)
Divers
Scie diamantée Disco DAD3350
Scriber Karl Suss
Machine de soudure par ultra sons TpT (wegde bond)
Machine de soudure par ultra sons K&S (ball bond)
Machine de soudure par ultra sons K&S (wegde bond
Machine de séchage supercritique Euris
#3228 - Màj : 22/05/2020
Tweeter