Laboratory of Nanostructures Studies and Surface Imagery (LENSIS)
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Groupe Photemission, Photodiffraction et Spectromicroscopie

The group's research activities focus on the analysis of electronic structure and the chemistry of surfaces and interfaces using spectroscopic and diffraction techniques of photoelectrons.

Contact: N. Barrett

Members of the laboratory.

 

 

Nanostructured surfaces constitute substrates very interesting for the deposition of thin layers, because one can hope that this substrate nanostructuration will be transmitted to the deposited layer. A nanostructuration at an atomic scale can be obtained by heat treatments adapted under controlled atmosphere, by interaction with a laser, or by homoepitaxy (i.e. by the deposition of a material identical to the substrate).

Groupe SIMA

Les activités de recherche du groupe SIMA portent sur le contrôle atomique des surfaces, interfaces et nanostructures, les propriétés électroniques, structurales, la croissance de films, les processus élémentaires aux surfaces et interfaces. Une description complète des activités du groupe se trouve sur le lien suivant: http://www.sima.u-psud.fr

Contact: P. Soukiassian.

 
#485 - Màj : 13/01/2017
Domaines Techniques
Les techniques de diffraction permettent de sonder l'ordre dans la matière. Pour ceci, on fait interagir une onde dont la longueur d'onde λ est comparable à la taille du motif cristallin élémentaire de l'échantillon. Ce peut être une onde électromagnétique (rayons X, lumière Laser) ou des particules (électrons, neutrons ou des atomes d'hélium).

X-ray Photoelectron Diffraction(XPD)

Diffraction
Microscopies électroniques TEM, MEB et LEEM/PEEM
Plusieurs types de microscopies électroniques sont disponibles à l'IRAMIS : - Microscopie à transmission (TEM : Transmission Electron Microscope), qui permet d'atteindre les plus hautes résolutions par diffusion/difffraction d'un faisceau d'électrons à travers un échantillon ultra-mince - Microscopie MEB et MEB-FEG (SPAM et SIS2M), ou microscopie à balayage, pour laquelle un faisceau d'électrons balaye la surface  de l'échantillon permettant d'obtenir une image de sa surface.

Development of novel XPEEM (spatial,momentum and energy resolved)

L'éclairement, par un rayonnement suffisamment énergétique, de la surface d'un matériau peut conduire à l'émission d'électrons dont la spectroscopie (étude en énergie) apporte des informations sur la composition de la surface étudiée.

Development of novel XPEEM (spatial,momentum and energy resolved)

Spectroscopies électroniques
Voir aussi
Chemisorption : « Back to the Group page « Back to the Oxides page   In view of the potential of transition metal (TM) oxides for photocatalytic applications, the adsorption and dissociation of water on their surfaces has been widely studied. Surface chemistry can strongly influence the adsorption mechanism. For example, the SrO-terminated perovskite oxide SrTiO3 (STO) favors dissociative adsorption, whereas on the TiO2-terminated surface, molecular adsorption is more stable.
Electrical boundary conditions : « Back to the Group page « Back to the Oxides page   The new physics emerging from two-dimensional films in the limit of a few unit cells has a host of exciting applications. However, understanding the ferroelectric properties of such engineered thin film systems requires taking into account not only the material but also its interfaces with electrodes, substrates or atmosphere; in other words, the electrical boundary conditions.
Screening : « Back to the Group page « Back to the Oxides page   Surface polarization charge in ferroelectric (FE) materials can be screened by a variety of mechanisms: intrinsic (charge carriers or defects in the bulk), extrinsic (chemical environment or adsorbates), domain ordering, or even a combination of the above. Chemisorption of OH- and protons can lead to important changes in the electrical boundary conditions and water film can play an active role in domain switching.
Switching the polarization :       « Back to the Group page « Back to the Oxides page       Switching requires a metallic contact, raising fundamental issues about the interface between the FE and the electrode. Polarization leads to fixed charge of opposite sign at the two metal-FE interfaces.
Publications HAL
Thèses
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Stages

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Images
Development of novel XPEEM (spatial,momentum and energy resolved)
Electronic structure of transparent conducting oxides (Al:ZnO) for photovoltaic coatings
Nitridation of Si dots
Work function and segregation in Nb doped SrTiO3 sintered ceramics
Work function and segregation in Nb doped SrTiO3 sintered ceramics
XPEEM Spectromicroscopy with synchrotron radiation and X-ray laboratory sources
XPEEM Spectromicroscopy with synchrotron radiation and X-ray laboratory sources
XPEEM Spectromicroscopy with synchrotron radiation and X-ray laboratory sources
Final state and intrinsic effects in photoemission
Final state and intrinsic effects in photoemission
Brevet :  Couche de silicium très sensible à l\'oxygène et procédé d\'obtention de cette couche
Brevet : Couche monoatomique et monocristalline de grande taille, en carbone de type diamant, et procédé de fabrication de cette couche
Brevet : Fils atomiques de grande longueur et de gande stabilite, procédé de fabrication de ces fils, application en nano-électronique
Brevet : Nano-objets métalliques, formes sur des surfaces de semi-conducteurs, et procédé de fabrication de ces nano-objets
Brevet : Substrat, notamment en carbure de silicium, recouvert par une couche mince de nitrure de silicium stœchiométrique, pour la fabrication de composants électroniques, et procédé d\'obtention d\'une telle couche
Brevet : Revêtements anti-réfléchissants pour piles solaires et procédé pour les fabriquer
Brevet : Revêtement anti-reflet, en particulier pour cellules solaires, et procédé de fabrication de ce revêtement
Brevet : Procédé de fabrication de nanostructures unidimensionnelles
Brevet :  Couche de silicium très sensible a l\'oxygène et procédé d\'obtention de cette couche
Brevet : Microscopie à effet tunnel par émission de photons perfectionnée
Brevet : Nanostructures à résistance différentielle négative et leur procédé de fabrication
Brevet : Procédé de métallisation de la surface préalablement passivée d\'un matériau semi-conducteur et matériau obtenu par ce procédé
Brevet : Procédé de stockage de l\'hydrogène, dispositif pour sa mise en œuvre et applications
Brevet : Procédé de traitement de la surface d\'un matériau semi-conducteur
XPS, UPS, ARUPS
 X-ray Photoelectron Diffraction(XPD)

 

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