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Patents 2005

05-09-2005
R. Dez et N. Herlin-Boime

Numéro d'identification : WO/2005/082808 (Lien OMPI et fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1480
Année de dépôt : 30-01-2004
Date de publication : 05-09-2005 

Nanopoudre céramique apte au frittage et son procédé de synthèse

L'invention a pour objet un procédé de synthèse d'une nanopoudre multiéléments Si/C/N/Ea/Fb/Gc/O directement apte au frittage, E, F et G représentant trois éléments métalliques distincts, différents de Si, et au moins a, b ou c étant non nul. Cette nanopoudre est obtenue par pyrolyse laser d'un aérosol comprenant au moins un précurseur métallique, de l'hexaméthyldisilazane Si2C6NH19 utilisé comme unique solvant dudit au moins un précurseur métallique, et du silane SiH4. Chaque grain de la nanopoudre obtenue contient tous les éléments Si, C, N, Ea, Fb, Gc, et O, et la composition chimique de la nanopoudre en terme de composés stœchiométriques équivalents est telle que la teneur en carbone libre est inférieure à 2% en masse et la teneur en SiO2 inférieure à 10% en masse. Utilisation de cette nanopoudre pour la fabrication d'une céramique composite Si3N4/SiC.

 


Sinterable nanopowder ceramic material and method for synthesis there
(Lien WIPO)

 

The invention relates to the synthesis of a directly sinterable multielement powder Si/C/N/Ea/Fb/ Gc/O, wherein E, F and G are three distinct metal elements different from Si and at least a, b, or c are non-equal to zero. The inventive nanopowder is producible by laser pyrolysis of an aerosol comprising at least one metal precursor, a hexamethyldisilazane Si2C6NH19 used as a unique solvent of said at least one metal precursor and a silane SiH4. Each grain of the obtainable nanopowder contains all Si, C, N, Ea, Fb, Gc and O elements and the nanopowder chemical composition in terms of equivalent stoichiometric compounds is such that a free carbon content is less than 2 mass % and SiO2 content is less than 10 mass %. The inventive nanopowder is used for producing a composite ceramic material Si3N4/SiC..

Contact: N. Herlin-Boime

13-01-2005
M. Schmidt , R.H. Lebert et U. Stam

Numéro d'identification : WO/2005/004555 (Lien OMPI et Fichier PDF associé)
Numéro d'identification CEA BD1471
Année de dépôt : 27-06-2003
Date de publication : 13-01-2005

Procédé et dispositif de production d'un rayonnement ultraviolet extrême ou d'un rayonnement x a faible énergie.

Le dispositif générateur d'ultraviolet extrême (EUV) ou d'un rayonnement X à faible énergie, comprend une source laser (12) de production d'un rayonnement laser (11) qui est concentré à des intensités dépassant 106 W/cm2 sur une cible pour produire un plasma, et des électrodes montées sur un bloc électriquement isolant (6) et disposées dans l'environnement du trajet du plasma produit par la source laser (12). Les électrodes sont combinées avec un dispositif produisant une décharge électrique rapide dans le plasma, ayant une constante de temps caractéristique qui est inférieure à la constante de temps d'expansion de plasma produit par le laser.

 


Method and device for producing extreme ultraviolet radiation or soft x-ray radiation
(lien WIPO)

 

The device for generating extreme ultraviolet (EUV) or soft X-ray radiation comprises a laser source (12) for producing a laser radiation (11) which is focused to intensities beyond 106 W/cm² onto a target to produce a plasma and electrodes mounted on an electrically insulating block (6) and located around the path of the plasma produced by the laser source (12). The electrodes are combined with a device for producing a rapid electric discharge in the plasma with a characteristic time constant which is less than the time constant of the laser produced plasma expansion time.

Contact: M. Schmidt

 

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