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Univ. Paris-Saclay
Semi-conducteurs 2D pour l’électronique flexible : évaluation du potentiel du MoS2 monocouche en tant que matériau de canal
Hugo Casademont
NIMBE/LICSEN
Jeudi 03/11/2016, 14:00-17:00
Bât 774, Amphi Claude Bloch, Orme des Merisiers

Résumé :

Cette thèse est consacrée à l’évaluation du potentiel d'un semi-conducteur bidimensionnel, le disulfure de molybdène (MoS2) monocouche, en tant que matériau de canal de type N pour l’électronique flexible. Ce semi-conducteur de moins d'un nanomètre d'épaisseur possède une bande interdite directe de 1,9 eV et une remarquable stabilité chimique et mécanique.

Le travail couvre en premier lieu la synthèse de monocouches de MoS2 par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et leur caractérisation. Les monocouches synthétisées ont été intégrées avec succès en tant que matériau de canal dans des transistors de type N stables à l'air. L'étude a mis en évidence l'impact sur les performances de l'environnement et des résistances aux interfaces métal/MoS2. Des mobilités électroniques de 20 cm²/(V.s) associées à des rapports ION/IOFF > 106 ont été obtenus. Ces performances ont permis l’intégration du MoS2 monocouche dans des transistors flexibles. Ce travail a été combiné à d’importants efforts sur l’intégration de films minces organiques électro-greffés en tant que diélectrique de grille, y compris sur substrat flexible.

Dans un domaine encore jeune mais en rapide évolution, ces travaux montrent la viabilité de l’option MoS2 monocouche pour l’électronique flexible, notamment en combinaison avec les diélectriques minces organiques.


 

Abstract:
This PhD thesis is dedicated to the assessment of the potential of monolayers of molybdenum disulfide (MoS2) as a N-type channel material for flexible electronics. This 2D semiconductor has a direct bandgap of 1.9 eV and combines an atomic thickness with chemical and mechanical robustness. This work includes the synthesis of MoS2 monolayers by Chemical Vapor Deposition (CVD) and the characterization of the grown material. These MoS2 monolayers were integrated in air-stable N-type transistors. The study highlighted the impact on the performances of the environment and of the resistances at the MoS2/metal interfaces. Electronic mobilities up to 20 cm²/(V.s) in combination with ION/IOFF ratios > 106 were achieved. These performances opened the way to the integration of MoS2 monolayers in flexible transistors. This work was combined to the study of electrografted organic ultrathin films as gate dielectrics and their integration in MoS2 transistors. This work shows that MoS2 monolayers are a viable option for flexible electronics, in particular when they are associated with ultrathin organic dielectrics.

 

Contact : Vincent DERYCKE

 

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