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Univ. Paris-Saclay
EXULITE: une source de lumière dans l'extrême UV
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EXULITE: une source de lumière dans l'extrême UV

Schéma de principe de la source EUV ELSAC

Graver des motifs toujours plus fins pour développer des circuits intégrés de plus en plus performants, voilà le défi permanent pour l’industrie de la microélectronique. L' objectif est de disposer, vers 2010, d’une technique de lithographie pour graver des motifs de 32 nm. Pour atteindre cet objectif, la lithographie dans l’extrême ultraviolet (EUV) à la longueur d' onde de 13,5 nm semble être aujourd’hui le candidat le plus sérieux. Les marchés importants en jeu attisent la compétition entre les nombreux acteurs au niveau mondial dont fait également parti le consortium français EXULITE. EXULITE, qui regroupe les efforts du CEA, d’Alcatel VT et de Thalès Laser, s' est donné comme objectif de développer une source plasma EUV créée par laser. Pour réaliser le prototype appelé ELSAC (« Euv Lithograpy Source Apparatus Cw »), le CEA/DEN/DPC a été en charge de la partie optique et le DRECAM/SPAM de l’intégration de l' enceinte source. ELSAC présente une structure modulaire évolutive qui permet de réduire les coûts de développement et de maintenance. Plusieurs modules lasers identiques sont ainsi focalisés sur un même point d’une cible de xénon liquide qui se présente sous forme d’un filament micrométrique défilant sous vide à une vitesse d’environ 30 m/s. Le xénon est intégralement pompé et recyclé pour limiter les coûts d’exploitation à un niveau raisonnable. ELSAC a produit en février 2006 un rayonnement EUV à une cadence de 6 kHz en utilisant 6 lasers de puissance. Ainsi, en injectant une puissance laser de plus de 1750 W, les équipes EXULITE du CEA ont réussi à produire une puissance EUV de 7.7 W dans une bande spectrale étroite de 0.27 nm autour de 13.5 nm. Cela correspond à un rendement de conversion de 0.44%.

 

 

 

 
EXULITE: une source de lumière dans l'extrême UV

Vue d'ensemble du laboratoire CEA commun DEN/DPC -DSM/DRECAM

EXULITE: une source de lumière dans l'extrême UV

Vue de l’intérieur du prototype ELSAC avec l’injecteur de xénon et le dispositif de Focalisation des 6 lasers (Photo CEA/DCOM).


EXULITE: une source de lumière dans l'extrême UV

Pré-alignement des faisceaux laser (Photo CEA/DCOM).

Contacts:

(CEA/DSM/DRECAM/SPAM)

(CEA/DEN/DPC/SCP)

 
#683 - Màj : 29/06/2011

 

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