| Centre
Paris-Saclay
| | | | | | | webmail : intra-extra| Accès VPN| Accès IST
Univ. Paris-Saclay
EXULITE

EXULITE : Une source de lumière dans l’extrême ultraviolet pour la nanolithographie

 
  • Objectif : Réaliser un prototype de source d’EUV pour la nanolithographie (motif < 32nm)
  • Principe : focaliser des faisceaux lasers IR (6) de forte puissance sur un micro-jet de xénon
  • Meilleure performance : 7.7 W à 6 kHz, dans 2p sr et 2% de Bande passante autour de 13.5 nm.

Pour plus de détails, cliquez ici

 
#681 - Màj : 21/06/2011

 

Retour en haut