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L'atelier de nanofabrication du SPEC
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Le SPEC s'est progressivement équipé d'un atelier de nanofabrication qui permet aux groupes de recherche d'y réaliser leurs échantillons. Cette installation du CEA, labellisée "centrale de proximité" en 2004 par le Ministère de l'Enseignement Supérieur et de la Recherche bénéficie également du soutien du CNRS, de la région Ile de France , de l'ANR (Agence nationale de la Recherche) et du Triangle de la Physique.

L'accès est en libre service pour les personnes ayant reçu les formations nécessaires. Des utilisateurs extérieurs  peuvent y avoir accès dans le cadre d'une collaboration active avec au moins une équipe du SPEC. Lorsqu'un projet extérieur est soumis, il est présenté au comité de pilotage qui en évalue la faisabilité avec les moyens existants. Pour qu'un tel projet puisse être accepté, il est indispensable qu'un groupe du SPEC prenne en charge l'encadrement et l'assistance aux utilisateurs qui conduisent ce projet.

L'atelier est constitué d'une salle blanche de classe 10000 réalisée en 2006 (115 m²) et d'une salle "grise"  de classe 100000  (50 m²). La première est équipée pour la lithographie optique, la préparation d'échantillons (gravures chimiques humides et sèches) et la caractérisation. La seconde accueille des équipements de dépôt de couches minces (2 évaporateurs, 2 pulvérisations) et un masqueur électronique de recherche.

D'autres équipements sont répartis dans des locaux conventionnels (120 m²) dont l'empoussièrement n'est pas contrôlé : lithographie électronique par MEB, équipements de dépôt de couches minces, appareils de caractérisation.

Un effectif de deux techniciens permanents est en charge du fonctionnement et de la maintenance de l'atelier.

Environ 80 utilisateurs sont enregistrés pour y avoir accès, une quarantaine y travaille régulièrement.

Contact :

 

Équipements de l'atelier de nanofabrication :

Lithographie optique

  • 1 ligneur de masques Karl Suss MJB3 (1988)
  • 1 aligneur de masques Suss Microtec MJB4 (2007)
  • 1 système de lithographie laser KLOE Dilase 650  
  • 2 tournettes Suss Microtec LabSpin6

Lithographie électronique

  • 1 microscope électronique FEI XL40 (1996)
  • 1 microscope électronique FEI XL30 SFEG (1998) + système de lithographie Raith Elphy
  • 1 système de lithographie Raith E-Line (2008)

Dépôt de couches minces

  • 1 évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 450 (1990)  Al, Au, Ti, Pt, Pd, Ag, Cu
  • 1 évaporateur par canon à électrons Plassys MEB 550S (2007)Al, Au, Ti, Pt, Cu, V
  • 1 évaporateur joule Zivy (1987 reconditionné en 2000) Au, Ti, Ge,
  • 1 pulvérisation DC Alcatel SCM400 (1987) Al, Nb, Ti, Ta
  • 1 pulverisation RF Plassys MP300 monocible pour isolants (SiO2, SiN, Al2O3) et NbTiN
  • 1 bati UHV Méca 2000, évaporation canon à électrons, pulvérisation RF multicibles, usinage ionique.

Gravure

  • 1 bati de gravure RIE Plassys MG200 (1989) SF6, CHF3, CF4, O2
  • 1 délaqueuse (downstream stripper) O2

 

Caractérisation

  • 1 profilomètre KLA tencor
  • 1 AFM 5500LS Stage -Keysight
  • 1 mesureur d'épaisseur par éllipsométrie
  • 1 testeuse sous pointes Karl Suss
  • Plusieurs microscopes optiques

Divers

  • 1 machine de soudure par ultra sons TpT (wegde bond)
  • 1 machine de soudure par ultra sons K&S (ball bond)
  • 1 machine de soudure par ultra sons K&S (wegde bond)
  • 1 scriber karl suss
  • 1 machine de séchage supercritique Euris
 

Maj : 19/07/2017 (1635)

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