| Centre
Paris-Saclay
| | | | | | | webmail : intra-extra| Accès VPN| Accès IST
Univ. Paris-Saclay
Brevet : Procédé d'extraction de tensioactif d'un matériau nanoporeux
N. Pasternak, N. Linder et C. Alba-Simionesco
logo_tutelle 
Brevet :  Procédé d'extraction de tensioactif d'un matériau nanoporeux

Spectres IRTF de matériaux nanoporeux de type Si02/Ti02 préparés en faisant varier les proportions de silice (Si) et de titane (Ti) selon les proportions mentionnées, et dont le tensioactif a été extrait selon le procédé de l'invention (L) ou par calcination ( C).

Numéro d’identification:  WO/2015/193612 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA BD 15077                  
Année de dépôt : 23-06-2014
Date de publication : 23-12-2015

Procédé d'extraction de tensioactif d'un matériau nanoporeux.
L'invention concerne un procédé d'extraction de tensioactif d'un matériaunanoporeux, ledit procédé comprenant les étapes suivantes : a) Préparation d'un matériau nanoporeux métallisé par traitement d'un matériau nanoporeux comprenant un tensioactif avec une solution aqueuse de sel métallique bivalent et une solution aqueuse d'ammoniac, b) Récupération du matériau nanoporeux métallisé d'une part et d'une solution de lavage d'autre part, c) Traitement du matériau nanoporeux métallisé avec un acide minéral pour enlever le métal de celui-ci, d) Récupération d'un matériau nanoporeux exempt de métal et de tensioactif d'une part et d'une solution résiduelle d'autre part.


Method for extracting surfactant from a nanoporous materia (WIPO link)

The invention concerns a method for extracting surfactant from a nanoporous material, said method comprising the following steps: a) Preparing a plated nanoporous material by treating a nanoporous material comprising a surfactant with an aqueous divalent metal salt solution and an aqueous ammonia solution, b) Recovering the plated nanoporous material and a washing solution, c) Treating the plated nanoporous material with a mineral acid to remove the metal from same, d) Recovering a nanoporous material free of metal and surfactant, and a residual solution.

Contact : N. Linder (LLB/GSBD).

 
#2568 - Màj : 29/11/2016

 

Retour en haut