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Univ. Paris-Saclay
Brevet: Dispositif de projection homothétique d'un motif a la surface d'un échantillon, procédé de lithographie utilisant un tel dispositif.
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Brevet: Dispositif de projection homothétique d'un motif a la surface d'un échantillon, procédé de lithographie utilisant un tel dispositif.

Vue schématique d’un disposif de photolithographie selon un mode de realisation de l’invention

Numéro d’identification : WO/2012/055833 (lien OMPI)
Numéro d’identification CEA BD                  
Année de dépôt : 29-10-2010
Date de publication: 03-05-2012

Dispositif de projection homothétique d'un motif a la surface d'un échantillon, procédé de lithographie utilisant un tel dispositif.

L'invention concerne un dispositif de projection homothétique d'un motif à la surface d'un échantillon comportant une zone photosensible. Le dispositif comporte les moyens permettant de projeter ce motif à la surface de l'échantillon et un système optique permettant de contrôler de façon continue son étendue projetée à la surface de l'échantillon. L'invention concerne également un procédé de photolithographie utilisant ce dispositif de projection, ainsi qu'un procédé de transformation d'un microscope optique en un tel dispositif de projection, ainsi que le kit de transformation d'un microscope optique associé.


Device for homothetic projection of a pattern onto the surface of a sample, and lithography method using such a device
(WIPO link)

The invention relates to a device for homothetic projection of a pattern onto the surface of a sample comprising a photosensitive zone. The device comprises means allowing a pattern to be projected onto the surface of the sample, and an optical system allowing the size of the pattern projected onto the surface of the sample to be continuously controlled. The invention also relates to a photolithography method using such a projection device, and to a method and a kit for converting an optical microscope into such a projection device.

Contact: J. Polesel.

 
#1955 - Màj : 17/07/2012

 

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