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Univ. Paris-Saclay
Brevet : Dispositif de projection homothétique d'un motif à la surface d'un échantillon, procède de lithographie utilisant un tel dispositif.
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Brevet : Dispositif de projection homothétique d'un motif à la surface d'un échantillon, procède de lithographie utilisant un tel dispositif.

Dispositif de photolithographie

Brevet : WO/2012/055833 (Lien OMPI)
Date de publication : 03-05-2012
Date de priorité :  29-10-2010

Dispositif de projection homothétique d'un motif à la surface d'un échantillon, procède de lithographie utilisant un tel dispositif.

L'invention concerne un dispositif de projection homothétique d'un motif à la surface d'un échantillon (21) comportant une zone photosensible. Le dispositif comporte des moyens permettant de projeter un motif à la surface de l'échantillon et un système optique (12) permettant de contrôler de façon continue l'étendue du motif projeté à la surface de l'échantillon. L'invention concerne également un procédé de photolithographie utilisant un tel dispositif de projection, ainsi qu'un procédé de transformation d'un microscope optique en un tel dispositif de projection, ainsi qu'un kit de transformation d'un microscope optique en un tel dispositif de projection.


Device for homothetic projection of a pattern onto the surface of a sample, and lithography method using such a device (WIPO link)

The invention relates to a device for homothetic projection of a pattern onto the surface of a sample (21) comprising a photosensitive zone. The device comprises means allowing a pattern to be projected onto the surface of the sample, and an optical system (12) allowing the size of the pattern projected onto the surface of the sample to be continuously controlled. The invention also relates to a photolithography method using such a projection device, and to a method and a kit for converting an optical microscope into such a projection device.  (Contact: J Polesel)

 
#1937 - Màj : 10/07/2012

 

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