Modélisation de sources plasma pour la nanolithographie

Une partie de l’activité du groupe "Matière à haute densité d’énergie" est consacrée à l’étude théorique de sources plasma pour la nanolithographie et aux phénomènes physiques assez complexes que ces sources mettent en jeu. On trouvera donc d’abord ici une présentation générale des motivations de ce travail.

 

Le premier formalisme utilisé est fondé sur la théorie des supraconfigurations.

 

Pour améliorer la description atomique, notamment mieux décrire le caractère non indépendant des électrons des ions qui se manifeste par l’interaction de configuration, nous avons eu recours à un code de potentiels paramétrés. Les améliorations du formalisme en cours  s’orientent notamment vers une description hors équilibre thermodynamique local fondée ici sur un calcul semi-empirique de la dsitribution ionique. Il est envisagé par ailleurs d'utiliser les modèles collisionnels-radiatifs pour calculer de manière plus précise les populations de chaque niveau.

 
#689 - Màj : 26/09/2018


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